판매용 중고 NIKON NSR 2205 i11D #293831519

NIKON NSR 2205 i11D는 광석판 처리 과정에서 반도체 칩을 정렬하고 노출시키는 데 사용되는 고급 석판화 장비입니다. 이 시스템은 최적의 웨이퍼 노출을위한 고급 다크룸 (darkroom) 과 정확한 공구 제어를 위한 자동 정렬 메커니즘을 갖추고 있습니다. 스테퍼는 고급 300mm 스캐너로 구성되어 있어 빠른 스캐닝 속도, 고해상도, 우수한 렌즈 성능을 제공합니다. 뒤틀린 웨이퍼를 사용해도 정확도가 높은 웨이퍼 정렬을 가능하게 하는 레이저 정렬 장치 (laser alignment unit) 를 사용합니다. NIKON NSR-2205I11D에는 모든 도구 기능을 실시간으로 제어할 수 있을 뿐만 아니라, 정밀도가 높은 XYZ 전송 머신이 장착되어 있습니다. 웨이퍼 스테이지 (wafer stage) 에는 향상된 웨이퍼 회전 제어 에셋이 포함되어 있어 정렬 메커니즘이 항상 웨이퍼와 완벽하게 조화를 이룹니다. 또한 고정밀 노출 및 정렬을 허용하는 이중 영역 오버레이 모델이 있습니다. 또한, 스테퍼에는 운영 중 최적의 안전을 보장하는 몇 가지 안전 기능이 제공됩니다. NSR 2205I11D 는 또한 정교한 매크로 프로그래밍에 사용할 수있는 광범위한 웨이퍼 레벨 기능을 제공합니다. 고정밀도 초점 제어 장비와 "웨이퍼 포커스 '를 안정화하고 왜곡, 기울기, 기타 수차에 대한 교정을 위한" 고급 해상도 제어 시스템' 을 갖추고 있습니다. 이 스테퍼는 또한 자기 진단 (self-diagnostics) 과 광선 및 기타 예상치 못한 발생으로부터 빠른 회복을 할 수 있습니다. 또한 NIKON NSR 2205 I11 D에는 최대 5 개의 레이어를 동시에 처리 할 수있는 다중 위치 노출 장치가 내장되어 있습니다. 입자 강착을 줄이고 배경 노이즈를 최소화하기위한 통합 기능이 있습니다. 또한, 기계는 오일 기반 저항과 물 기반 저항과 호환되므로 포토 마스크 (photomask) 를 선택할 때 더 큰 유연성을 제공합니다. NSR 2205 I11 D는 기존 photolithography 프로세스에 쉽게 통합되도록 설계되었습니다. 소형 크기와 설치 공간 감소로 모든 Wafer Processing Lab에 쉽게 설치할 수 있습니다. 또한, 효율적인 전력 소비량, 고급 냉각 시스템, 우수한 렌즈 성능으로 인해 작동이 비용 효율적이며, 고정밀도 제어는 매우 안정적입니다. 고급 기능으로 인하여, 시스템의 최고 수준의 정확도와 성능을 요구하는 석판화가들에게는 훌륭한 선택이 됩니다 (영문).