판매용 중고 NIKON NSR 2205 i11D #293609472

ID: 293609472
Stepper Resolution: 0.4 µm DOF: 0.6 µm Total focus deviation: ≤0.4 µm Lens inclination: ≤0.2 µm Lens distortion: Within ±50 nm Focus control accuracy: Within ±0.15 µm Illumination uniformity: Within ±2.5% Power: 700 mW/Cm² Reticle blind setting accuracy: Within +0.40 mm to +0.80 mm Reticle rotation: |x|+3s≤20 nm Array orthogonality: Within ±0.1 s Stepping precision: Within 0.040 µm (3σ) Alignment accuracy (LSA, FIA): |Mean|+3s <0.085 µm Wafer pre-alignment repeatability: Within ±1.5 s Wafer flatness: <0.8 µm.
NIKON NSR 2205 i11D 웨이퍼 스테퍼는 고급 리소그래피 프로세스와 반도체 웨이퍼의 고품질 이미징에 사용되는 고급 자동 스테핑 장비입니다. 이 시스템은 초고해상도 디지털 카메라 (Ultra-High Resolution Digital Camera) 를 사용하여 반도체 부품의 최고 품질의 이미지를 얻은 다음, 정밀 스텝 모터를 사용하여 포토마스크 및 웨이퍼 기판을 원하는 위치에 정확하게 배치합니다. 그런 다음 NIKON NSR-2205I11D 는 이러한 이미지를 가져와 여러 웨이퍼 크기와 포토마스크 구성에서 정확성과 일관성을 보장하도록 설계된, 고도의 자동 스테핑 프로세서로 전달합니다. 이 장치는 정밀도, 정확성, 반복성을 결합하고 사이클 시간을 줄이고 낭비되는 기계 자원을 최소화하는 데 중점을 둡니다. 이 작업은 고급 로딩 도구, 이중 축 인터페이스, 측면 이동 기능 등의 고급 (advanced) 기능을 통합하여 수행됩니다. 이중 축 에셋은 리토 그래피 프로세스의 더 세밀한 이미지 해상도와 더 큰 처리량을 허용하며, 각 축에 대해 30 미크론, 플러스 또는 마이너스 1.4 미크론의 정확도를 갖습니다. 측면 이동 (Lateral Shift) 기능은 크기가 다른 웨이퍼에 사용할 수 있으므로 크기 기판을 연속적으로 스텝핑할 수 있습니다. NSR 2205I11D 는 포토 마스크 (photomask) 및 웨이퍼 (wafer) 전송을 위한 높은 처리 속도를 보장하는 고유한 드라이브 모델을 갖추고 있습니다. 스텝핑 (steping) 프로세스 중 웨이퍼 충돌 위험을 낮추는 이중 모터 동기화 (dual-motor synchronization) 기능으로 설계되었습니다. 스테퍼는 또한 고급 웨이퍼 리프팅 (wafer lifting) 기능을 제공하여 위치 별 웨이퍼 리프팅을 제어하여 가능한 최고 정확도를 허용합니다. 이 장비는 픽셀당 0.75 픽셀의 상대 스테핑 정확도와 픽셀당 0.5 픽셀의 상대 정확도를 제공합니다. NIKON NSR 2205 I11 D는 고급 통신 시스템으로 설계되었으며, 온라인 모니터링 및 진단 기능과 통합되어 있습니다. 이를 통해 운영자는 단위 (unit) 성능 및 잠재적 문제를 신속하고 적절하게 디버깅할 수 있습니다. 또한, 이 시스템은 유연한 사용자 제어 기능을 제공하는 제어 소프트웨어 제품군 (control software suite) 과 포괄적인 도구 데이터 분석 및 보고 기능 (reporting) 을 갖추고 있습니다. NSR-2205 I11D 는 고급 자동 스테핑 (auto-steping) 자산으로, 정확도가 높고 처리량이 높아 최상의 이미징 결과를 얻을 수 있습니다. 이 모델은 반도체 제조업체와 사진 (photolithography) 공정을 위해 특별히 설계되었으며, 이러한 응용 분야에서 업계에서 가장 인기있는 시스템 중 하나입니다. 고급 기능을 통해 안정적이고, 정확하며, 효율성이 높은 자동 스테핑 (auto-steping) 장비를 찾는 사람들에게 이상적인 선택이 가능합니다.
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