판매용 중고 NIKON NSR 2205 EX14C #9301516

ID: 9301516
웨이퍼 크기: 8"
빈티지: 2000
Stepper, 8" Resolution: 0.25um Wafer loader type: Type3, NC Pre2 Reticle, 6" Max expose field size: 22 mm x 22 mm Reticle library: (10) Slots CYMER 5400 Laser system PPD Bar code reader Alignment system: LSA, FIA Inline: Left Chamber type: Sendai S32 2000 vintage.
NIKON NSR 2205 EX14C 웨이퍼 스테퍼 (Wafer Stepper) 는 다양한 기판에 걸쳐 두껍고 얇은 감광 저항의 패턴을 정밀하게 조정하도록 설계된 다재다능한 포토 리토 그래피 장비입니다. NIKON NSR-2205EX14C는 고주파 스캐닝 경로, 고해상도 프로젝션 광학, 디지털 이미징 기능, 종합적인 소프트웨어 패키지 등 최신 기능을 갖추고 있습니다. NSR-2205 EX14C의 디지털 이미징 시스템 (Digital Imaging System) 은 패턴 저항의 매우 상세한 이미지를 획득 할 수 있습니다. 이것은 고급 레이저 노출 (advanced laser exposure) 및 레이저 조명 (laser illumination) 기술을 사용하여 패턴 필드 전체에 균일 한 노출을 보장합니다. 이 장치에는 설계 규칙에 따라 구조 (structure) 와 기타 피쳐를 정확하게 배치할 수 있는 정교한 마스킹 (masking) 기능도 포함되어 있습니다. NSR-2205EX14C 의 고주파 스캐닝 경로 (high-frequency scanning path) 는 빠른 속도로 넓은 영역에서 감광 저항을 처리하는 데 사용됩니다. 이것은 여러 가변 속도 모터, 스테이지 제어 유형 서보 (stage control type servos) 및 로터리 인코더 (rotary encoder) 의 조합을 사용하여 노출 중 스테이지의 정확한 위치를 지정할 수 있습니다. 또한, 고주파 스캐닝 경로 (high frequency scanning path) 는 저항이 최소 왜곡으로 전체 길이에 균일하게 노출되도록 합니다. NIKON NSR-2205 EX 14 C는 또한 매우 고해상도 프로젝션 광학 머신을 특징으로하며, 이를 통해 패턴화 된 구조의 정확한 이미지를 얻을 수 있습니다. 광학은 높은 수치 조리개 (aperture) 와 낮은 왜곡 (distortion) 을 제공하여 매우 세밀한 세부 사항을 정밀하게 패턴화 할 수 있습니다. 또한 광학 (optics) 은 넓은 심도를 제공하여 스테퍼가 왜곡 (distortion) 없이 작은 피쳐의 겹치는 레이어를 패턴화할 수 있습니다. 마지막으로, NSR 2205EX 14C 는 photolithography 툴의 전반적인 작동을 관리하는 포괄적인 소프트웨어 패키지를 갖추고 있습니다. 이 소프트웨어는 사용자 친화적이고 직관적으로 설계되었으며, 작업 스케줄링 (Job Scheduling), 데이터 관리 (Data Management), 사진 용량 모니터링 (Photon Dose Monitoring), 중요한 매개변수 로깅 (Logging) 등 다양한 맞춤형 옵션을 제공합니다. 전반적으로 NSR 2205 EX14C 웨이퍼 스테퍼 (Wafer Stepper) 는 다재다능하고, 신뢰할 수 있으며, 정확한 포토 리토 그래피 자산으로, 뛰어난 정확도로 넓은 지역에 걸쳐 다양한 저항을 패턴화 할 수 있습니다. 이것은 광범위한 photolithography 응용 프로그램에 이상적인 선택입니다.
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