판매용 중고 NIKON NSR 2205 EX14C #293603626

NIKON NSR 2205 EX14C는 다양한 반도체 제조 공정에 사용되는 집적 회로 (IC) 생산을 위해 설계된 고급 UV (Ultraviolet) Wafer Stepper photolithography 장비입니다. 이 시스템은 고급 옵틱과 정밀 모션 제어 (motion control) 기술을 결합하여 이미지를 웨이퍼에 정확하게 투영합니다. 장치의 해상도와 정확도는 웨이퍼 (wafer) 에 인쇄된 피쳐를 정확하게 정렬합니다. NIKON NSR-2205EX14C 는 다용도, 고급 웨이퍼 스테퍼 머신으로, 다양한 애플리케이션에 적합합니다. NSR-2205 EX14C 웨이퍼 스테퍼 (Wafer Stepper) 에는 광학적으로 교정 된 4 배 감소 광학 자산으로 구성된 NSR-S307E 시리즈 감소 프로젝션 광학 공구가 장착되어 있습니다. 이는 이미지 종횡비가 1:1 인 close-up 에서 infinity 까지의 뛰어난 이미지 품질을 제공합니다. 광학 모델에는 회전 대칭 렌즈 쌍 (개체 1 개, 이미지 1 개) 이 포함됩니다. 렌즈는 광학적으로 교정 된 아스페어로, 수차를 줄여 고품질 이미지를 제공합니다. 이 제품은 NIKON Electronics Housing Systems (NEHS) 를 활용하여 스테퍼 장비 레이아웃과 제어에 대한 독특한 접근 방식을 제공합니다. NEHS는 반도체 웨이퍼 노출을위한 단단한 프레임 (rigid frame) 을 제공하고, 웨이퍼의 뒤틀림을 줄이고, 웨이퍼 표면의 정확한 진공 통풍 및 유지 관리를 가능하게합니다. 이 시스템은 또한 최신 NIKON IMS (Image Monitor Unit) 를 갖추고 있으며, 렌즈 및 기계 요소 변위, 온도 및 가스 조성에 관계없이 웨이퍼 표면에 정확하게 정렬 된 이미지를 유지합니다. NSR 2205 EX 14 C는 높은 위치 지정을 보장하는 고정밀 도구 컨트롤러로 구동됩니다. 이 듀얼 중앙 프로세서 (Dual Central Processor) 자산은 초당 최대 1,000 개의 전기 광 명령을 처리할 수 있으며, 뛰어난 응답성과 정확성을 제공합니다. 스테퍼는 또한 니콘 스케일링 드라이브 모델 (SDS) (NIKON Scaling Drive Model) 을 갖추고 있으며, 이 장비의 이미징 정확성은 초단계 라인 너비 응용 프로그램을 포함한 다양한 리소그래피 프로세스의 설계 사양에 부합 할 수 있습니다. NIKON NSR 2205 EX 14C는 직경이 최대 200mm 인 기판을 처리 할 수 있습니다. 질소 냉각 진공 콜드 블록과 365nm ~ 435nm 파장에서 작동하는 가열 LED 노출 소스로 설계되었습니다. DLT (Dual Lithography Table) 에는 2 개의 테이블이 있으며 시간당 30 개의 웨이퍼 교환 스캔을 수행 할 수 있습니다. 간단히 말해, NIKON NSR-2205 EX 14 C는 최첨단 옵티컬 유닛, 최신 제어 시스템 및 고정밀 처리 기능을 갖춘 고급 UV Wafer Stepper 시스템입니다. 초소형 회선 너비가 필요한 리소그래피 응용 프로그램 (Lithography Applications) 에 적합한 선택으로, 뛰어난 화질과 정확도를 제공합니다.