판매용 중고 NIKON NSR 203B #293804860

NIKON NSR 203B는 반도체 처리에 사용하도록 설계된 스테퍼 장치입니다. 이 기계는 리소그래피 (lithography) 에 대한 정확한 포토 마스크 정렬이 가능하며, 장치 제작, 마스크 도량형, 장치 수정 등 다양한 응용 프로그램에 사용됩니다. NSR 203B 스테퍼는 다양한 기능으로 설계되어 매우 정확한 결과를 얻을 수 있습니다. 장비에는 고정밀도 스캐닝 단계 (scanning stage) 가 포함되어 있어 기판에 대한 포토 마스크 (photomask) 를 매우 정확하게 정렬 할 수 있습니다. 이 기능은 자동화된 레티클 교환 시스템과 결합하여 빠르고 효율적인 포토마스크 (photomask) 정렬을 보장합니다. NIKON NSR 203B 스테퍼는 고급 유닛 설계 (Advanced Unit Design) 덕분에 높은 정확성과 반복성으로 이미징을 수행 할 수 있습니다. 이 기계는 최첨단 다중 레이어, 고해상도 이미징 에셋뿐만 아니라 고출력 광 (optical) 도구를 사용합니다. 이미징 모델은 나노 미터 해상도로 3 차원 이미지를 형성 할 수 있으며, 웨이퍼 패턴화에 이상적입니다. NSR 203B 스테퍼에는 필드 플랫 렌즈 (field flattening lens) 장비가 장착되어 있어 이미징 시스템에서 광도의 균일성을 보장합니다. 이 장치에는 기판에서 반사되는 빛의 양을 제어하는 고급 광학 (advanced optics) 과 기계에 존재하는 산란된 빛의 양을 제어하는 고급 광학 (advanced optics) 도 포함되어 있습니다. 이러한 기능을 사용하면 이미징 도구의 전체 광학 왜곡 양을 줄일 수 있습니다. NIKON NSR 203B 스테퍼는 사용하기 쉬운 그래픽 사용자 인터페이스도 제공합니다. 이를 통해 에셋을 직관적으로 제어할 수 있으므로 이미징 (imaging) 매개변수를 쉽게 조정할 수 있습니다. 사용자는 또한 여러 작업을 동시에 실행하도록 시스템을 구성할 수 있으며, 즉, 처리량 (throughput) 을 높이고 모델에 대한 제어를 강화할 수 있습니다. 전반적으로, NSR 203B 스테퍼는 반도체 제품 생산을위한 사용자 정의 및 사용자 친화적 인 장비입니다. 고급 이미징 시스템은 다중 계층 해상도 (multi-layer resolution) 기능과 함께 장치 제작, 마스크 도량형 (mask metrology), 장치 수정 (device modification) 등 다양한 애플리케이션에 이상적인 시스템입니다. 사용하기 쉬운 인터페이스로 초보자와 전문가 모두에게 이상적입니다.