판매용 중고 NIKON NSR 2005 i9C #9096012

NIKON NSR 2005 i9C Wafer Stepper는 집적 회로 및 미세한 전자 부품을 만드는 데 사용되는 고정밀 반도체 리소그래피 장비입니다. NIKON 반도체 솔루션 (Semiconductor Solutions) 에서 개발 및 제조한 이 제품은 탁월한 패턴 캡처 정확도와 위치 정확성을 갖춘 높은 처리량과 매우 저렴한 패턴을 제공합니다. NIKON NSR2005I9C 는 매우 높은 노출 해상도를 제공하며 1/1000nm 의 뛰어난 동적 범위를 제공합니다. 효율적이고 강력한 nyquist 샘플링 중에 패턴 왜곡을 줄이는 opto-mechanical aliasing correction 프로토콜을 제공합니다. 웨이퍼 스테이지에는 고급 동적 랩핑 (dynamic lapping) 및 모놀리식 (monolithic), 비교란 정렬 시스템 (non-disturbing alignment system) 및 완벽한 광 정렬을 보장하기위한 통합 링 검색 장치가 장착되어 있습니다. 또한 i9C는 "나노 추적 (nano-tracking)" 기술을 통해 극도의 확대 이미징에 기계를 사용할 수 있습니다. NSR-2005I9C는 10nm 해상도의 2K 및 4K 렌즈 어셈블리 4K 및 6K 적은 패턴을 특징으로하며 392nm ArF 중수소 램프와 크립톤 엑시머 레이저를 장착합니다. 이 반도체 석판화 도구는 위치와 초점 모두에 대해 0.5nm 단계의 반복 성을 갖습니다. 고유한 구성은 다른 마스크 레벨을 허용하며, 저항 (resist), 리프트 오프 (lift-off), 개별 레이어 저항과 같은 광범위한 다중 레이어 프로세스를 제공합니다. 광학은 오프 축 (off-axis) 이 가능하며 4 레벨 이진 광학 자산 및 직접 쓰기 기술은 다양한 요구를 충족시키는 다양한 최적화 기술을 제공합니다. NSR 2005I9C 는 또한 자동 컴퓨터 제어 (Automated Computer Control) 옵션 제품군을 제공합니다. 따라서 사용자는 주기 시간을 줄이고 모델의 처리량과 정확도를 최적화할 수 있습니다. 또한, CCD 카메라는 장비 프로세서에 연결되어 있으며, 이를 통해 사용자는 중요한 데이터 (예: 레티클, 필드 크기) 에 즉시 액세스할 수 있습니다. 이 시스템에는 오염을 줄이기 위해 열 디퓨저 (thermal diffuser) 와 가스 모듈 (gas module) 도 있습니다. 전반적으로 NSR 2005 I 9 C 웨이퍼 스테퍼 (Wafer Stepper) 는 전례없는 해상도, 정확도 및 처리량을 가진 패턴을 만드는 데 적합한 매우 정확하고 신뢰할 수있는 반도체 리소그래피 장치입니다. 고급 동적 랩핑 (dynamic lapping), 모놀리식 (monolithic), 비교란 정렬 기계, 오프 축 (off-axis), 자동 컴퓨터 제어 기능과 같은 고유한 기능을 통해 업계에서 가장 뛰어난 웨이퍼 스테퍼 중 하나입니다.