판매용 중고 NIKON NSR 2005 i6 #9269102

NIKON NSR 2005 i6은 다양한 애플리케이션에 고해상도 이미징을 제공하는 Wafer Stepper입니다. 유연성 (Flexible Processing) 을 위한 광범위한 노출 매개변수를 제공하며, 마스크 (Mask) 와 회로 패턴 (Circuit Pattern) 배열에 대한 안정적인 작동과 높은 수율을 제공하도록 설계되었습니다. 이 기계는 챔버의 전면, 측면, 상단에서 볼 수있는 독특한 디자인의 5 축 장비입니다. 자동화된 정렬 시스템 (Automated Alignment System) 을 탑재하여 노출 중에 레티클과 웨이퍼를 정확하게 정렬할 수 있습니다. NSR 2005 i6은 가장 복잡한 기능을 매우 정확하게 배치할 수 있도록 Perfect Step Stepping Method를 사용합니다. 이 기술은 최소 등록 오류로 ~ 0.5 nm 해상도를 허용하며, 노출 매개변수가 더 높은 정밀도를 얻기 위해 더 최적화 될 수 있습니다. 적외선 정렬 장치 (Infrared Alignment Unit) 는 또한 다양한 회로 패턴의 정확한 오버레이 정렬을 제공 할 수 있으며, 기계의 3D 정렬은 웨이퍼 (Wafer) 와 레티클 (Reticle) 사이의 기울기 오류를 보완하여 매우 작은 기능의 이미지를 가능하게 합니다. NIKON NSR 2005 i6에는 가장 어려운 포토 마스크 해상도를 보장하기 위해 자체 조절 Full Closed Loop Scanning Tool이 있습니다. 이 자산은 등록 정확성을 효율화하고 생산 중 결함 영향을 최소화합니다. 또한 이미지 평가 모델 (Image Evaluation Model) 이 내장되어 각 노출 과정에서 품질 이미지가 생성되도록 합니다. NSR 2005 i6 은 통합 Carrier 및 Wafer Handler 를 활용하여 처리량 및 효율성을 향상시킵니다. 통합 공기 베어링 유형 핸들러는 정확한 처리 및 최적의 표면 보호를 제공합니다. 또한 이 장비에는 입자의 접착력을 줄이고 패턴 가장자리의 인쇄를 최적화하기 위해 저범프 저항 장치 (Low Bump Resistance Unit) 가 장착되어 있습니다. 이 기술은 다이 내 변형 (within-die variation) 을 제어하는 데 도움이되며 종합적인 이미지 평가와 결합하여 지속적으로 높은 수율을 산출합니다. NIKON NSR 2005 i6에는 안정성 모니터링 및 지원 하위 시스템 (예: 리플로우 오븐 (Reflow Oven) 및 입자 모니터링 시스템) 과 같은 다양한 기능이 장착되어 있어 지속적인 유지 보수에 도움이 될 수 있습니다. 또한 이 툴에는 이더넷 (Ethernet) 연결 기능이 장착되어 있어 네트워크의 다른 노드와 쉽게 액세스할 수 있습니다. 이렇게 하면 공구 상태를 쉽게 추적할 수 있고, 프로세스 최적화 과정에서 더 많은 지원을 받을 수 있습니다.