판매용 중고 NIKON NSR 2005 i10 #293600669

NIKON NSR 2005 i10은 wafer photolithography 응용 프로그램에 반도체 산업에서 널리 사용되는 정밀 웨이퍼 스테퍼입니다. 반도체 웨이퍼에 회로 패턴의 고해상도 이미징을 제공하는 원격 중심, 침수 형 렌즈 및 2 단계 광학 프로젝션 장비를 갖추고 있습니다. 레이저 간섭계 (laser interferometer) 동작 피드백 시스템은 나노 미터 수준의 반복성과 낮은 수준의 변동성을 보장하며, 기존의 스텝에 비해 뛰어난 오버레이 정렬 정확도를 제공합니다. 또한 제품 설계 (Product Design) 는 확장성을 향상시켜 사용자가 구성 요소나 기능을 추가하여 시스템을 업그레이드하거나 확장할 수 있도록 합니다. NIKON NSR-2005I10 작동 방법은 다음과 같습니다. 웨이퍼는 동력 (motorized) 테이블에 배치되고 자동 초점 장치 (autofocus unit) 는 마스크의 원하는 수준에 정확하게 초점을 맞추는 데 사용됩니다. 그런 다음 프로그래밍 된 패턴이 웨이퍼 표면에 노출됩니다. "머신 '의 투영" 머신' 은 투영 된 "이미지 '의 크기 와 모양 을 변화 시키는 데 사용 될 수 있으며, 그것 은 개발 중 에 있는 특정 한 회로" 패턴' 에 따라 다른 종류 의 노출 을 가능 하게 한다. 각 노출 후, 모터를 사용하여 웨이퍼를 정확하게 재배치하고 패턴을 반복 할 수 있습니다. NSR 2005 i10 의 주요 장점은 고해상도, 정확도 및 반복성입니다. 원격 중심, 침수 형 렌즈 및 2 단계 광학 투영 도구는 최소 왜곡과 소음을 가진 명확한 이미지를 생성합니다. 레이저 간섭계 (laser interferometer) 동작 피드백 자산은 나노 미터 수준의 반복성과 낮은 수준의 변동성을 보장하여 탁월한 정확성을 제공합니다. 또한 이 제품의 확장성 (Scalability of the product) 은 사용자가 특정 애플리케이션에 필요한 대로 시스템을 업그레이드하거나 확장할 수 있음을 의미합니다. NSR-2005I10 은 반도체 업계의 애플리케이션을 위한 정확한 회로 패턴 (circuit pattern) 을 만드는 데 유용한 툴입니다. 용도에 중요한 고해상도, 정확도, 반복성을 제공합니다. 이를 통해 많은 업계에서 자사 제품에 대해 높은 정밀도를 필요로 하는 경제적인 옵션입니다 (영문).