판매용 중고 NIKON NSR 2005 G8C #9148221

NIKON NSR 2005 G8C는 반도체 장치의 빠르고 정확한 생산을 위해 설계된 고정밀 웨이퍼 스테퍼입니다. 이 장비에는 최고 5 미크론 SSR (Spot Size Reduction) 객관식 렌즈가 장착되어 있으며 최대 해상도는 12.5nm입니다. 고급 트래버스 시스템으로 향상된 정밀한 자동 정렬 및 동작 제어 (Motion Control) 기능을 통해 높은 수율과 낮은 폐기물을 얻을 수 있습니다. 또한 G8C 는 최대 200mm 크기의 웨이퍼 (wafer) 를 갖춘 대용량 작업 공간을 갖추고 있어 다양한 디바이스 구조를 처리할 수 있습니다. G8C는 고급 노출 제어 알고리즘을 사용하여 최대 균일성 및 배터리 접근을 보장합니다. 또한, 노출 장치가 자동 초점 (autofocus) 옵션으로 향상되어 정확한 자동 노출이 가능합니다. 또한 G8C에는 5축 스티칭 (stitching) 기능이 있어 여러 이미지를 스티치하여 단일 오버레이 마스크를 만들 수 있습니다. 이는 최적의 처리량을 제공하며 웨이퍼 처리 및 비용을 최소화합니다. 스테퍼는 또한 매우 빠른 웨이퍼 처리 시간을 가지며, 처리 속도는 시간당 최대 600 웨이퍼 (wafer) 입니다. 이 기계는 또한 노출 당 비용 절감, 웨이퍼 당 전체 처리량 감소, 비용 효율적인 작동을 제공합니다. 또한 G8C 는 확장 단계 (Expanded Step) 및 반복 (Repeat) 기능을 제공하여 웨퍼 (Wafer) 에 맞게 패턴을 빠르게 조정하고 주기 시간을 줄일 수 있습니다. G8C (G8C) 는 유연하고 작동이 용이하도록 설계되었으며, 다양한 기판 크기와 모양에 대한 넓은 조정 범위를 갖추고 있습니다. 이 툴은 또한 광범위한 광 구성 (optical configuration) 을 제공하여 기술이 발전함에 따라 완전한 리소그래피 유연성을 조정할 수 있습니다. 또한, G8C에는 빠르고, 쉽고, 안정적인 작동이 가능한 디지털 자동화 자산이 장착되어 있습니다. 전반적으로, NSR 2005 G8C는 반도체 장치 생산에서 빠르고 정확한 정확성을 제공하도록 설계된 고정밀 웨이퍼 스테퍼입니다. 최상위 Optic, 자동 노출 제어 모델, 자동 초점 기능, 높은 처리율, 유연한 리소그래피 및 디지털 자동화 장비를 갖추고 있습니다. 이러한 이점을 통해 다양한 디바이스 애플리케이션에 이상적인 선택이 가능합니다.