판매용 중고 NIKON NSR-1755i7B #293825587
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ID: 293825587
Stepper
Electric source: NEMA Box / CVCF / UPS
Chamber type: ASAHI / SENDAI S810
Reticle Microscope: 15 mm to 17.5 mm.
니콘 NSR-1755i7B (NIKON NSR-1755i7B) 는 반도체 산업을 위해 설계된 매우 정교한 웨이퍼 스테퍼 장비로, 특히 반도체 제조 시설의 고급 석판화 공정의 요구를 충족시킵니다. 최첨단 장비는 니콘 (NIKON) 에서 인정하는 웨이퍼 스텝퍼 (wafer stepper) 시리즈의 일부이며 실리콘 웨이퍼에 대한 고정밀 이미징 및 패턴화를 가능하게 하는 다양한 혁신적인 기능과 기능을 자랑합니다. 수치 조리개 (NA) 가 0.75 인 최첨단 iline 프로젝션 렌즈를 갖춘 NIKON NSR 1755 i7B는 웨이퍼에 복잡한 패턴을 패턴화하는 뛰어난 해상도와 이미지 품질을 제공합니다. 이 시스템에는 5 배의 감소 투영 광학 장치 (optics unit) 가 장착되어 있어 스테퍼가 최대 150 나노미터의 해상도를 달성하여 고급 집적 회로 및 메모리 장치를 제조하는 데 적합합니다. NSR-1755i7B는 정교한 i-line 엑시머 레이저 광원으로 구동되며, 365 나노 미터의 파장에서 빛을 방출합니다. 이 광원 은 "스테퍼 '를" 웨이퍼' 에 "포토레지스트 '를 노출 시키는 데 필요 한 조명술 을 제공 해 주며, 고도 와 정확도 로" 포토마스크' 에서 "실리콘 '기판 으로" 패턴' 을 옮길 수 있게 해 준다. 이 스테퍼는 다양한 포토레시스트 (photoresist) 재료를 처리하여 프로세스 최적화 및 사용자 정의의 유연성을 제공합니다. NSR 1755 i7B 의 주요 강점 중 하나는 고급 정렬 및 오버레이 (overlay) 기능으로, 리소그래피 프로세스 동안 정확한 패턴 등록 및 정렬에 필수적입니다. 이 기계는 자유도가 여러 개인 정교한 스테이지 툴 (stage tool) 을 갖추고 있어 포토 마스크 (photomask) 와 관련하여 웨이퍼를 정확하게 배치하고 정렬할 수 있습니다. 이 높은 수준의 정렬 정확성 (Alignment Accuracy) 은 안정적인 패턴 전송을 보장하며, 스테퍼가 고급 반도체 장치 제조에 필요한 엄격한 오버레이 공차를 달성 할 수 있도록 합니다. 고급 이미징 및 정렬 기능 외에도, NIKON NSR-1755i7B 는 다양한 고급 자동화 기능을 통합하여 생산성을 높이고 제조 프로세스를 간소화합니다. 이 자산에는 자동 웨이퍼 처리, 정렬, 초점 최적화 (focus optimization) 를 위한 지능형 소프트웨어 알고리즘이 탑재되어 있어 수작업 (manual intervention) 이 필요하고 연산자 오류 (operator error) 가 최소화됩니다. 이러한 자동화 기능을 통해 처리량을 높일 수 있으며, 반도체 구성 워크플로우와의 원활한 통합을 용이하게 합니다. NIKON NSR 1755 i7B 는 견고하고 안정적인 플랫폼으로 설계되어, 운영 기간 연장 (extended of operation) 에 걸쳐 안정적이고 일관된 성능을 보장합니다. 이 모델은 기계적 교란을 최소화하고 노출 중 최적의 이미징 안정성을 보장하기 위해 진동 분리 (vbration isolation) 장비를 갖추고 있습니다. 또한, 스테퍼에는 고급 모니터링 (monitoring) 및 진단 시스템 (diagnostics system) 이 장착되어 실시간으로 모든 문제를 감지하고 해결하여 반도체 제조에서 높은 공정 수익률과 신뢰성을 보장합니다. 전반적으로 NSR-1755i7B 웨이퍼 스테퍼 (wafer stepper) 는 석판화 기술의 정점을 나타내며, 반도체 제조업체는 최첨단 집적 회로 생산을 위해 고해상도 패턴화와 정확한 정렬을 달성하기위한 강력한 도구를 제공합니다. NSR 1755 i7B 는 고급 옵틱 (optic), 정렬 기능, 자동화 기능, 견고한 설계를 통해 반도체 업계의 까다로운 요구 사항을 충족하고 고급 반도체 제조 공정의 혁신을 주도할 수 있습니다.
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