판매용 중고 NIKON NSR 1755 i7B #9268107

NIKON NSR 1755 i7B는 반도체 장치 제작에 매우 정확한 사진 해설을 제공하기 위해 설계된 최첨단 웨이퍼 스테퍼입니다. 이 모델은 고급 전자 빔 리소그래피 (EBL) 시스템을 특징으로하여 0.01 m까지 우수한 기능 해상도를 제공합니다. 정확한 스테이지 정렬을 위해 무거운 프레임 구조를 갖추고 있으며 최신 NIKON NSC (Scan Angle Control) 기술을 통합하여 웨이퍼 위치 정확도를 향상시킵니다. 또한 NIKON NSR-1755I7B 웨이퍼 스테퍼는 최고 1.0초/다이 (die) 의 탁월한 구매 속도로 기판으로의 직접 다운 (direct-down-to-substrate) 패턴화를 달성하여 긴 노출 시간이 필요하지 않습니다. 고급 EBL 시스템은 또한 탁월한 해상도, 고속 스캔, 뛰어난 스테이지 정렬 정확도를 제공합니다. 이 모델에는 높은 처리량, 넓은 영역 스캐너, 빠른 스캐닝 및 최적화된 패턴 오버레이를 위한 독특한 고전압 광학 시스템 (Optics System) 이 포함됩니다. EBL 제어 장치와 NSR 1755 i7B 웨이퍼 스테퍼 (wafer stepper) 간의 고속 통신을 통해 운영자는 긴 노출 시 위치 유지, 패턴 스캔 속도 및 크기 조정, 기타 웨이퍼 전처리 설정 등 여러 프로세스 단계를 정확하게 제어할 수 있습니다. NSR-1755I7B 웨이퍼 스테퍼 (wafer stepper) 는 또한 고급 웨이퍼 클램핑 기능으로, 다른 기판에 도전했을 때 정확한 조정 및 빠른 변경을 가능하게합니다. 고정밀 드라이브 시스템은 다양한 운영 조건에 비해 정밀도 (Registration Accuracy) 와 안정성 (Stability) 을 높입니다. 이 모델은 또한 패턴 변환 (pattern translation) 과 배율 조정 (scale adjustment) 을 갖춘 자동 정렬 기능을 제공하며, 고유 한 모서리 검출기를 사용하여 현미경으로 웨이퍼를 빠르게 찾습니다. 궁극적으로 NIKON NSR 1755 i7B 웨이퍼 스테퍼는 업계 최고의 정확성과 처리량을 제공하여 대규모/소규모 디바이스 제작에 이상적인 솔루션입니다. 이 모델의 빠른 스캐닝 기능, 다양한 리소그래피 (lithography), 조절 가능한 스테이지 (stage) 설정은 다양한 고급 디바이스 구성 프로세스에 사용할 수 있는 유연성을 제공합니다. 사용자 친화적 인 인터페이스를 통해 손쉽게 작동할 수 있으며, 탁월한 패턴 해상도 (Pattern Resolution) 와 뛰어난 프로세스 성능 (Process Performance) 을 통해 모든 Wafer Stepper 애플리케이션을 선택할 수 있습니다.