판매용 중고 NIKON NSR 1755 i7A #9235673

NIKON NSR 1755 i7A는 CMOS 장치 및 기타 민감한 집적 회로의 제작에 사용하도록 설계된 고급 웨이퍼 스테퍼입니다. NIKON의 석판 도구의 최첨단 300mm Advanced Performance 플랫폼의 일부입니다. NIKON NSR 1755I7A는 WSU (Wafer Stabilization Unit) 와 SMSD (Substrate Motion Step Drive) 로 구성된 스캐닝 스테이지로 설계되었으며, 모두 정확하고 반복 가능한 웨이퍼 스캔을 보장합니다. 이 제품은 혁신적인 저수차 설계로 설계된 전용 NSR-S202B 옵티컬 렌즈 (optical lens) 를 사용하여 빠른 스캔 속도에서도 고해상도 이미지를 제공합니다. NSR-1755I7A (Automated Illuminator Unit) 는 Wafer 표면에서 노출 필드의 정확한 위치를 보장하도록 설계된 자동 조명기 장치를 갖추고 있습니다. 또한 6 축 빔 조향 장치 (6 축 빔 조향 장치) 가 포함되어 있으며, 광학 부품의 위치를 직접 제어하여 노출 필드의 정확한 정렬을 달성하도록 설계되었습니다. NSR 1755I7A 는 다중 레티클 검사 메커니즘 (Multi-Reticle Inspection Mechanism) 으로 설계되어 검사 및 프로세스 제어의 정확성과 신뢰성을 향상시킵니다. 또한 독점적 인 RIE (Reactive Ion Etching) 시스템을 갖추고 있으며 최적의 노출 영역을 위해 웨이퍼 표면을 정확하게 에칭하도록 설계되었습니다. 또한 NSR 1755 i7A 는 포괄적인 프로세스 가변성 모니터링 툴로 설계되었습니다. 여기에는 고속 IBO (Image Based Overlay) 기능이 포함되며, 사용자가 최대 수율을 보장하기 위해 정렬 정확도를 모니터링하고 조정할 수 있습니다. 또한 공정 가스에서 입자, 수분 및 기타 오염 물질의 수준을 측정하고 제어하도록 설계된 CCS (Integrated Contamination Control System) 가 포함되어 있습니다. NSR 1755 I 7 A 는 처리량이 많은 스캔 방식 웨이퍼 기능을 제공하도록 설계되어, 사용자가 무시할 수 있는 지연으로 한 프로세스에서 다음 프로세스로 빠르게 이동할 수 있습니다. 여기에는 고급 동작 제어 (Advanced Motion Control) 및 정교한 렌즈 보정 기능이 모두 포함되며, 노출 필드 및 해상도의 정확한 확장과 최적의 결과를 위한 정확한 빔 정렬이 가능합니다. 또한 NIKON NSR-1755 I 7 A 는 간단한 진공 및 프로세스 가스 전달 및 통신 인터페이스를 갖춘 기존 Fabs 와 손쉽게 통합할 수 있도록 설계되었습니다. NIKON NSR-1755I7A 는 최신 프로세스를 위한 탁월한 성능을 제공하도록 설계되었습니다. 강력한 기능을 통해 사용자는 NSR-1755 I 7 A 에 의존하여 최고의 생산성을 제공할 수 있습니다.