판매용 중고 NIKON NSR 1755 i7A #9225988

NIKON NSR 1755 i7A
ID: 9225988
웨이퍼 크기: 6"
Stepper, 6".
NIKON NSR 1755 i7A Wafer Stepper는 대용량, 고해상도 리소그래피 프로세스를 가능하게하도록 설계된 고급 석판화 장비입니다. 마스크 제작, 웨이퍼 제작과 같은 어플리케이션에서 탁월한 성능을 제공하도록 설계되었습니다. 이 시스템은 이중, 고해상도 스캐너 헤드가 최대 0.25 "m '의 정확도와 0.2" m' 의 반복성으로 인해 인상적인 정확성과 반복성을 제공합니다. 이렇게 하면 더 작은 프로세스 피쳐 (예: 선, 공백) 를 정확하게 재생성할 수 있습니다. NIKON NSR 1755I7A Wafer Stepper에는 3 개의 광 모듈이 있으며, 이 모듈을 사용하여 각기 다른 석판 처리에 대한 장치를 구성할 수 있습니다. 첫 번째 모듈은 최대 정확도 0.25 "미터 '의 고해상도 스캐너 헤드 (scanner head) 와 최대 정확도 0.5" 미터' 의 표준 스캐너 헤드 (scanner head) 로 구성된 듀얼 스캐너 헤드 (dual scanner head) 입니다. 두 번째 모듈은 1.25 jm 정확도의 고급 적용 및 정렬 기계입니다. 이 도구는 또한 자동 분석, 정렬 및 노출 결과 교정을 허용하는 동력 단계 동기화 (Motorized Stage Synchronization) 기능을 제공합니다. 마지막으로, 세 번째 모듈은 고도의 조명기 자산입니다. NSR-1755I7A Wafer Stepper는 ArF, KrF, I-line, UV excimer 및 Ion excimer를 포함하여 다양한 조명기를 사용할 수 있기 때문에 시장에서 가장 다용도 시스템 중 하나입니다. NIKON NSR-1755I7A Wafer Stepper는 광범위한 제어 및 성능 기능을 제공합니다. 자동 (automated) 및 수동 (manual) 작업과 함께 x2에서 x100까지의 배율을 포함한 광범위한 오브젝티브 렌즈 구성을 수집할 수 있습니다. 최신 리토그래피 테이블 솔루션 (Lithography Table Solutions) 과 호환되며 전체 자동 패턴화를 위한 마스크 제작 머신과 통합 될 수 있습니다. 또한이 모델은 빠른 노출 패턴을 가능하게하며 CP에는 시간당 최대 8 개의 웨이퍼, OB에는 시간당 최대 3 개의 웨이퍼를 제공합니다. 사용 편의성을 극대화하기 위해, NSR 1755 i7A Wafer Stepper는 직관적인 Long Track Control Technology를 25 "고해상도 디스플레이와 함께 제공하여 장비를 손쉽게 보고 제어할 수 있습니다. 또한 웹을 통한 원격 액세스 및 제어가 가능한 유연한 사용자 인터페이스 (user interface) 를 제공합니다. 마지막으로, 이 시스템은 탁월한 네트워킹 기능을 제공하여 다른 시스템과의 통합 및 원격 액세스 (remote access) 를 지원합니다. 결론적으로 NSR-1755 I 7 A Wafer Stepper는 가장 까다로운 석판화 응용 프로그램을 충족하도록 설계된 강력하고 고급 석판화 장치입니다. 이중 고해상도 스캐너 헤드 (scanner head), 고급 적용 및 정렬 기계 (apply and alignment machine), 고급 조명기 (illuminator) 도구를 통해 탁월한 성능을 제공합니다. 또한 직관적인 Long Track Control Technology 및 유연한 사용자 인터페이스와 같은 뛰어난 제어 및 성능 기능을 제공합니다. 따라서 NIKON NSR-1755 I 7 A Wafer Stepper는 대규모 및 소규모 생산 프로세스 모두에 이상적인 선택입니다.
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