판매용 중고 NIKON NSR 1755 i7A #293681784

NIKON NSR 1755 i7A 웨이퍼 스테퍼는 고정밀 리소그래피 애플리케이션을 위해 설계된 고급 광학 이미징 장비입니다. 이 "시스템 '은 반도체 제조 에 사용 되는" 실리콘', 유리 및 기타 재료 와 같은 기판 에 매우 정확 한 패턴 과 "이미지 '를 만들어 낼 수 있다. 전용 NIKON 이미징 기술 (자동 정렬 장치 포함) 과 고속 자동 초점 (mis-alignment 보상) 이 특징입니다. NIKON NSR 1755I7A는 나놀리토그래피, 전자 빔 리소그래피, VLSI 제작, 박막 증착 및 도량형과 같은 생산 프로세스 및 연구 응용 프로그램에 이상적입니다. NSR-1755I7A 는 이미지 해상도가 25nm 미만인 고급 Optic 과 최대 100mm 의 기판 이동을 위한 고정밀 단계를 제공합니다. 사용자 친화적이고 직관적인 GUI (그래픽 사용자 인터페이스) 를 통해 쉽고 간편하게 작업을 수행할 수 있습니다. 이 스테퍼에는 표준 반도체 레시피가있는 고급 공정 제어 머신 (process control machine) 이 있어 대규모 생산 환경에 이상적입니다. 이 도구는 ISO/JIS, SEMI 및 IEC 표준과 호환됩니다. NIKON NSR 1755 I 7 A에는 초고속 스캔 기능이 있는 통합 듀얼 노출 자산이 포함되어 있습니다. 이 모델은 두 개의 필드를 동시에 처리할 수 있으며, 리소그래피 도구의 경우 오버레이 오류를 0.1 미크론 미만으로 줄일 수 있습니다. 이 장비는 또한 투여 노출 (dosing exposure), 조명 및 노출 방법 (lumination and exposure) 을 사용하여 하나의 패스에 모든 석판화 층을 노출시키고, 처리량을 늘리고, 수율을 증가시킬 수 있습니다. 이 시스템에는 패턴화 주기 동안 오염을 줄이기 위해 설계된 클리닝 장치가 포함되어 있습니다. 나노 스케일 클리닝 장치 (nanoscale cleaning unit) 는 표면 오염을 최소화하며 처리량을 높이고 공정 제어가 뛰어납니다. 스테퍼에는 노출 시간 제어, 셔터 제어, 다중 이미징 파장 선택 등 다양한 기능이 있습니다. NSR-1755 I 7 A 웨이퍼 스테퍼 (wafer stepper) 는 오염을 최소화하고 프로세스 제어가 뛰어난 고정밀도, 고출력 이미징을 제공하는 다용도 시스템입니다. 기판 처리량 및 수율을 극대화하도록 설계되었으며, 많은 반도체 제작 프로세스에 이상적입니다.