판매용 중고 NIKON NSR 1755 G7A #9215745

NIKON NSR 1755 G7A는 고속 및 정확한 photolithography 응용 프로그램을 위해 설계된 웨이퍼 스테퍼입니다. 독보적이고 정확도가 높은 정렬 (alignment) 장비를 활용하며, 다양한 유용한 기능을 제공하여 반도체 생산에 매우 적합합니다. NIKON NSR-1755G7A는 2 차원 정렬 시스템을 사용하여 각 웨이퍼의 정확한 위치를 결정합니다. 이 고급 장치는 정확하고 반복 가능하며, 각 노출에 따라 고해상도 (High-resolution) 패턴이 일관되게 생성됩니다. 또한, 기계는 7 축 위치 지정 도구를 갖추고 있으며, 여러 기판을 처리 할 때에도 높은 정확도를 제공합니다. NSR-1755 G7A 웨이퍼 스테퍼 (wafer stepper) 의 고급 기능을 사용하여 사용자는 노출 프로세스를 정확하게 제어 할 수 있습니다. 이렇게 하면 각 웨이퍼가 원하는 패턴화 정밀도로 정확하게 노출되도록 할 수 있습니다. 또한, 스테퍼는 긴 노출 시간 범위를 가지고 있으며, 최대 2 시간의 매우 긴 노출을 제공 할 수 있습니다. NIKON NSR-1755 G7A 웨이퍼 스테퍼의 디자인도 매우 효율적입니다. 소형 폼 팩터 (form factor) 로 설계되어 핵심 기능을 그대로 유지하면서 스테퍼 (stepper) 의 크기를 줄이는 데 도움이 됩니다. 또한, 스테퍼에는 4x5 자동 초점 자산이 장착되어 있으므로 여러 웨이퍼 노출이 자동으로 수정 될 수 있습니다. 성능 측면에서, NSR 1755 G7A 는 정확한 이미지를 일관되게 생성하는 데 도움이 되는 기능을 갖추고 있습니다. 각 노출을 측정하기 위해 레이저 기반 PDA (Photo-Diode Array) 와 광학 도량형의 조합을 사용합니다. 이는 결과의 정확도를 향상시켜, 사용자가 높은 정확도로 자신있게 결과를 재현할 수 있도록 합니다. 또한 웨이퍼 스테퍼 (wafer stepper) 에는 높은 정확도의 자동 피두시얼 정렬 모델이 장착되어 있으며 다양한 이미징 프로세스 매개변수를 제공합니다. NSR-1755G7A는 매우 효율적이고 안정적인 웨이퍼 스테퍼입니다. 특유의 장비 설계 및 효율성을 통해 고급 반도체 생산의 리소그래피 (lithography) 프로세스에 적합합니다. 정밀 정렬 및 노출 제어 (Exposure Control) 를 포함한 다양한 기능과 견고한 이미징 성능 (Imaging Performance) 을 통해 현대 반도체 생산에 매우 바람직한 시스템이되었습니다.