판매용 중고 NIKON NSR 1505 i7B #293748560

NIKON NSR 1505 i7B Wafer Stepper는 정밀 에칭, 노출, 이미징 및 기타 중요한 리소그래피 단계를 위해 설계된 반자동 석판 장비입니다. 다재다능성과 견고한 디자인은 반도체, 포토 마스크, 미세 유체 장치 제조 응용 분야에 이상적입니다. 이 시스템은 다양한 정밀 패턴화 및 이미징 기능을 제공합니다. 이 장치는 최대 6x6 인치 (접점) 의 웨이퍼 크기에 걸쳐 스캔 할 수있는 대규모 V-Tone 스캐너를 사용합니다. 스캐너는 반자동 (semi-autonomous) 및 자동 작동 모드 (automatic operation mode) 를 포함하여 다양한 방향으로 스테퍼 헤드를 이동할 수 있는 유연성을 제공합니다. 더 큰 형식은 또한 다이 크기 변화를 줄이고 패턴화하는 동안 더 정밀도를 제공 할 수 있습니다. 최적 저 수차 영상 및 원치 않는 간섭을 줄이기 위해 고급 형광 렌즈 (advanced fluorite lens) 도 포함되어 있습니다. NSR 1505 i7B 웨이퍼 스테퍼는 고해상도 패턴화를 위한 탁월한 기능을 제공합니다. 확장 가능한 리소그래피 기능에는 패턴 생성, 다이 사이즈 최적화, 패턴 정렬 및 배치, 하위 샘플링이 포함됩니다. 이 기계는 또한 프로세스 레시피 최적화 및 자동 패턴 학습 프로파일 선택을 위해 SVM (Support Vector Machine) 알고리즘을 제공합니다. 이 도구는 Multi-Exposure Imaging, Direct Imaging, Edge Exposure Imaging, Sub-Half Micron Resolution Imaging 및 Flexible Exposure Dose Control과 같은 광범위한 리소그래피 기술을 지원합니다. NIKON NSR 1505 i7B는 Photoresist Developer 및 Photoactive Sensitizer와 같은 광범위한 화학 물질도 지원할 수 있습니다. 에셋에는 자동 마스킹 (Auto Masking) 기능이 포함되어 있어 패턴 파일이 필요 없이 신속하게 패턴을 생성할 수 있습니다. NSR 1505 i7B Wafer Stepper는 완전히 자동화 된 6 축 동력 스테이지와 자동 In-Situ 종점 제어 모델을 갖추고 있습니다. 이 장비는 고도의 재현성을 가능하게하며, 다양한 기판 (기판) 과 재료 (재료) 에 걸쳐 뛰어난 해상도와 입자 오염을 줄일 수 있습니다. 이 시스템은 또한 종합적인 슬라이더, 버튼, 스크롤러 세트를 갖추고 있어 모든 리소그래피 (lithography) 매개변수에 쉽게 액세스할 수 있습니다. 이 장치는 최신 NIKON Process TCAM 소프트웨어 패키지로 구동됩니다. 이를 통해 제조 공정 전반에 걸쳐 뛰어난 인쇄, 정밀도 및 정확성을 보장할 수 있습니다. 소프트웨어 패키지를 사용하면 그래픽 도구 모음과 사용자 정의 바로 가기 키를 사용하여 쉽고 직관적인 작업을 수행할 수 있습니다. 또한 사전 정의된 레시피 및 패턴 생성기 (pattern generator) 라이브러리가 포함되어 있으며, 전체 리소그래피 및 측정 지침을 표시하고 최신 매개변수 및 프로세스 설정에 신속하게 액세스할 수 있습니다. 전반적으로 NIKON NSR 1505 i7B Wafer Stepper는 반도체, photomask 및 microfluidic 장치 제작의 고정밀 에칭, 이미징 및 패턴을 위해 설계된 고급 사용자 친화적 인 석판 기계입니다. 강력한 기능, 확장성, 자동화 기능을 통해 다양한 애플리케이션의 성능과 비용 효율성을 극대화할 수 있습니다 (영문).