판매용 중고 NIKON NSR 1505 G7D #9045469

NIKON NSR 1505 G7D Wafer Stepper는 다양한 애플리케이션 요구를 충족하도록 설계된 정밀 석판화 장비입니다. 양산 석판화 공정 (mass-production lithography process) 은 고급 반도체 포장 및 제조에서 엄격한 수익률 요건을 충족시킬 수 있습니다. NSR 1505 G7D 는 뛰어난 처리량, 처리량 안정성, 동급 최고의 해상도를 제공하는 높은 정확도, 높은 처리량 리소그래피 시스템입니다. 또한 균일하고 안정적인 노출 용량을 보장하기 위해 설계되었으며, 이를 통해 고객이 가장 높은 품질의 반도체 (semiconductor) 장치를 생산할 수 있습니다. 이 장치에는 3 차원의 자동 기판 정렬, 수평 및 수직 노출 작동을위한 불평등 노출 제어, 자동 기판 들여쓰기 및 먼지 검사, 다양한 기판 처리 옵션 등 여러 가지 고급 기능이 포함되어 있습니다. NIKON NSR 1505 G7D는 5 미크론 슬릿을 사용하며, 레이저 다이오드는 최대 출력 200mW/cm2에 걸쳐 방사선을 생성합니다. 365 ~ 445nm의 넓은 파장을 제공하며, 최대 노출 시간은 5 초입니다. 광범위한 온도 범위에 대한 서브 미크론 포커스 (submicron focus) 뿐만 아니라 최소 초점 18m를 달성 할 수 있습니다. NSR 1505 G7D는 최대 200mm 직경 웨이퍼를 지원하는 직접 투사 스테퍼를 사용합니다. 또한 실리콘 온 인슐레이터 (silicon-on-insulator) 및 박막 호일을 포함한 다양한 기판을 처리 할 수 있습니다. 더 나아가, 그것 은 사진사 (photoresist) 와 다른 물질 들 과 함께 사용 될 수 있으며, 이것 은 고급 의 반도체 석판화 (lithography) 에 이상적 인 선택 이 된다. NIKON NSR 1505 G7D 웨이퍼 스테퍼 (G7D Wafer Stepper) 를 사용할 경우, 스캔 및 초점 매개 변수를 프로그래밍하여 균일성과 수익률이 높은 많은 기판을 처리할 수 있습니다. 또한 내장형 패턴 인식 머신 (pattern recognition machine) 과 자동 초점 기능 덕분에 쉽게 정렬 및 기판 중심이 가능합니다. 마지막으로 NSR 1505 G7D 는 마스크, 플레이트 및 기타 액세서리 부품과 매우 호환됩니다. 이를 통해 기존 석판화 (lithography) 장비에 손쉽게 통합할 수 있으며, 여러 애플리케이션 간에 신속하게 기술을 전송할 수 있습니다.