판매용 중고 NIKON NSR 1505 G6E #9204502
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ID: 9204502
웨이퍼 크기: 4"
빈티지: 1988
Stepper, 4"
Sapphire wafer
Wafer type: Flat
Chamber type: ASAHI S7I
Chamber width: 1500 mm
Computer: PDP11
HP 5517A Laser
Wafer alignment: LSA, WGA
Wafer carrier table: Left and right
NIKON ITV Camera
OMRON Of detection, 4"
Wafer loader type: Type1
Reticle size: 5"
Reticle library slots: (13) Main slots
Rack type: Normal right position
1988 vintage.
NIKON NSR 1505 G6E 웨이퍼 스테퍼 (Wafer Stepper) 는 웨이퍼에 대한 높은 정밀도 인상을 만드는 데 사용되는 차세대 석판화 도구입니다. 반도체 웨이퍼에 서브 미크론 구조를 제작하는 빠르고 신뢰할 수있는 수단을 제공하도록 설계되었습니다. 이 장비는 고급 스캐닝 (Scanning), 정렬 (Alignment) 및 이미징 시스템 (Imaging System) 을 활용하여 높은 수준의 반복 가능성과 정확성을 유지하면서 시간당 최대 150 웨이퍼의 처리 속도를 제공합니다. NIKON NSR-1505G6E 웨이퍼 스테퍼 (Wafer Stepper) 에는 정밀 리소그래피 인쇄를 빠르게 만들기 위해 함께 작동하는 구성 요소 배열이있는 9 인치 리소그래피 유닛이 장착되어 있습니다. 이 기계는 최소 0.07 미크론의 해상도로 최대 8.5 미크론 (micron) 의 이미지를 인쇄 할 수있는 150mm 후면 렌즈를 사용합니다. 이 도구는 또한 초고해상도 이미지 터널, 140GHz 래스터 스캔 에셋 및 웨이퍼에 정확한 리소그래피 인쇄 위치 및 배치를 보장하는 자동 정렬 모델 (Auto-Alignment Model) 을 갖추고 있습니다. 또한, 장비는 MEMS, photonic crystal 및 기타 특수 구조와 같은 직사각형이 아닌 객체에 모양을 정확하게 만들 수 있도록 프로그래밍 될 수 있습니다. 최적의 제작을 위해, 시스템은 다양한 석판화 마스크 (lithographic mask) 로 구성되며, 이를 통해 사용자는 지정된 응용 프로그램에 필요한 정확한 이미지와 모양을 제작할 수 있습니다. 또한, 이 장치에는 고급 제어 장치 (Advanced Control Machine) 가 장착되어 있어 사용자 정의 해상도, 피치, 대비를 위해 리소그래피 인쇄를 프로그래밍하고 제어할 수 있습니다. 이 도구는 안전성을 높이기 위해 공기 밀봉, 먼지 없는 환경에 보관되어 장비의 수명을 극대화합니다. 에셋에는 필터 변경 (filter changes) 이나 렌즈 청소 (lens cleaning) 와 같은 유지 보수 요구 사항에 대해 사용자에게 경고하는 자체 진단 모델이 추가로 제공됩니다. NSR 1505 G6E 웨이퍼 스테퍼 (Wafer Stepper) 는 매우 정확하고 신뢰할 수있는 리소그래피 기기로 다양한 응용 프로그램을 수용 할 수 있습니다. 고해상도 이미징, 고급 제어 및 정렬 시스템 (Advanced Control and Alignment System), 다수의 석판화 마스크 (Lithographic Mask) 를 조합하여 모든 응용 프로그램에 대해 빠르고, 안정적이며, 정확한 석판화 인쇄를 할 수 있습니다.
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