판매용 중고 NIKON NSR 1505 G6E #293817955
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ID: 293817955
Stepper
Numerical Aperture (NA): 0.54
Resolution: 650 nm
DCO: 140
Throughput (WPH): 58.
NIKON NSR 1505 G6E는 반도체 제조 공정에서 리소그래피에 사용되는 고급 웨이퍼 스테퍼입니다. 대구경 반도체 기판에서 칩 패턴을 고밀도로 노출 할 수있는 스텝 앤 스캔 (step-and-scan) 프로젝션 정렬기입니다. 이 장비는 직경 200mm 웨이퍼를 정확하게 이미지화할 수 있도록 설계되었으며, 웨이퍼를 2 개의 패턴 웨이퍼로 분할하는 데 사용되는 듀얼 웨이퍼 (dual wafer) 프로세스를 수용 할 수 있습니다. G6E (Multi-Scan Step and Repeat System) 는 보다 빠른 처리 시간과 빠른 속도를 제공하는 멀티 스캔 단계이며 반복 시스템입니다. 이 장치에는 정밀 0.35 수치 조리개, 고해상도 스캐너, 강력한 스테이지 포지셔닝 도구, 고급 이미지 수정 기술 등을 갖춘 최첨단 옵티컬 머신이 장착되어 있습니다. 이러한 기능의 조합으로 에셋은 최대 10 마이크로미터 깊이의 < 1.5 mm 피치 (pitch) 의 뛰어난 오버레이 및 배치 정확도를 제공 할 수 있습니다. 이 모델에는 더 빠른 노출 펄스 응용을위한 고속 서보 모터 (High Speed Servo Motor) 와 노출 중 정확한 웨이퍼 처리를 보장하는 견고성 강화 (Rugged Drive) 장비가 장착되어 있습니다. 이 시스템에는 고효율 냉각 장치 (cooling mechanism) 와 안정적인 노출을위한 고급 셔터 장치 (shutter unit) 도 포함되어 있습니다. NIKON NSR-1505G6E는 안정적이고 효율적인 작동을 위해 설계된 견고한 시스템입니다. 이 도구는 기본 CPU와 웨이퍼 처리 CPU로 구성된 이중 CPU 자산을 사용합니다. 주 CPU는 모델을 제어하고 웨이퍼 처리 (wafer processing) CPU는 노출 처리 및 웨이퍼 처리를 처리합니다. 이 구조는 두 CPU 간의 더 나은 통신을 통해 높은 처리량과 높은 정확도를 제공합니다. NSR 1505 G6E 는 또한 사용자 친화적 인 소프트웨어로 설계되었으며, 다양한 처리 조건을 충족하는 다양한 옵션을 제공합니다. 다중 노출 기능 (multi-exposure feature) 이 장착되어 있어 사용자가 동일한 웨이퍼에서 여러 노출 작업을 처리할 수 있습니다. 이 기능은 처리 시간을 줄이고 전반적인 처리량과 정확도를 향상시킵니다. NSR-1505G6E 는 최첨단 리소그래피 (lithography) 프로세스의 요구를 충족하도록 설계된 고급 웨이퍼 스테퍼입니다. 이 장비에는 최첨단 옵티컬 시스템, 고급 웨이퍼 처리 기술, 사용자 친화적 인 소프트웨어가 장착되어 있습니다. 견고한 디자인과 결합된 이러한 기능을 통해 장치가 일관되게 고품질 (High-Quality) 노출 결과를 얻을 수 있습니다.
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