판매용 중고 NIKON NSR 1505 G4D #9226100

NIKON NSR 1505 G4D 웨이퍼 스테퍼는 반도체 및 집적 회로 제조를 위해 설계된 고급 사진 분석 시스템입니다. 노출, 저항 코팅, 개발 저항 등 다양한 프로세스를 수행 할 수 있습니다. NIKON NSR 1505 G 4 D에는 고정밀 2 축 스캐닝 스테이지와 340nm, 4mJ ArF 레이저 소스가 장착되어 있으며, 기존 레이저 소스와 비교하여 최대 4 배의 사진 응답이 가능하며 오버레이 등록 정확도가 크게 향상되었습니다. 노출 패턴 (Exposure Pattern) 의 정밀도가 증가하면 선과 패턴을 더 세밀하게 생성하여 더 넓은 범위의 컴포넌트 (Component) 를 더 정밀하게 생성할 수 있습니다. NSR 1505 G4D의 최대 단계 이동 거리는 355mm (직경 14 ") 이며 최소 0.5jm 해상도입니다. 이 스테퍼는 프로세스 제어 (process control) 와 정확성, 사용자 친화적 인터페이스 (user-friendly interface) 에 매우 중점을 두어 운영 효율성과 신뢰성을 모두 보장합니다. NSR 1505 G 4 D 는 광범위한 저항재 (resist materials) 와 호환되므로 다양한 사진 분석 프로세스를 수행 할 수 있습니다. 여기에는 액체 침수, 고급 마이크로 머시닝, SU-8 및 등대 구조 패턴이 포함됩니다. NIKON NSR 1505 G4D는 크기 범위 (200m) 에서 고정밀 패턴을 수행하는 데 적합합니다. 또한 모양과 크기의 극적인 차이가있는 패턴을 생성 할 수 있으며, 직경이 최대 20mm 인 대규모 피쳐에 0.5 인치 (0.5 m) 선과 공백과 같은 작은 기능이 있습니다. 웨이퍼 표면을 보호하기 위해 니콘 NSR 1505 G 4 D (NIKON NSR 1505 G 4 D) 에는 깨끗한 환경을 적극적으로 유지하는 고급 진공 시스템, 포토 블리칭 (photobleaching) 및 기타 결함으로부터 웨이퍼를 보호하는 온도 및 습도 제어 시스템이 포함되어 있습니다. 또한 NSR 1505 G4D 는 정확성과 신뢰성 외에도 신속한 노출 시간 (time-exposure time) 및 고속 처리 기능을 제공하여 대용량 생산을 지원합니다. 이 스테퍼는 운영자 및 기타 인원의 방사선 노출을 최소화하기위한 다양한 안전 시스템 (Safety System) 을 포함합니다. 결론적으로, NSR 1505 G 4 D는 반도체 제조에 사용하도록 설계된 최고의 사진 분석 시스템입니다. 이 고급 웨이퍼 스테퍼 (Advanced Wafer Stepper) 는 고정밀도, 고품질 노출 패턴 및 향상된 기능을 제공하여 다양한 구성 요소를 생산할 수 있습니다. 전체 환경 보호 기능, 안전 측정, 그리고 신속한 노출, 고속 처리 기능을 통해 효율성, 신뢰성을 높일 수 있습니다.