판매용 중고 NIKON NES1 H4 #9239624

NIKON NES1 H4는 반도체 웨이퍼 기판 생산에 사용되는 반자동 고정밀 스테퍼입니다. H4 웨이퍼 스테퍼는 10 m 이상에서 높은 수율과 뛰어난 정확도를 제공합니다. 이 제품은 다양한 기능을 갖추고 있으며, 반도체 업계에서 15 년 이상 사용되어 왔습니다. NES1 H4는 필드 크기가 56.4 x 56.4mm, 최대 스테이지 크기가 25.4 x 25.4mm 인 단일 필드 스테퍼입니다. 스테퍼에는 360도 정밀 정렬을위한 MPRS (Multi-Patterning Rotation Stage) 가 장착되어 있습니다. H4 웨이퍼 스테퍼는 500mm 범위에서 최대 해상도 0.1m입니다. 스테퍼에는 배치 현미경, 레이저 변위 센서 및 정렬 개선 프로세서로 구성된 정렬/노출 장비가 장착되어 있습니다. 또한 고정밀 프로젝터 렌즈, 샘플링 정렬 및 빔 편광 제어가 특징입니다. NIKON NES1 H4에는 깊은 자외선 (DUV) 및 극자외선 (EUV) 리소그래피 사용을 지원하는 파장 범위가 있습니다. 스테퍼는 i-line 및 KrF 레이저와 모두 호환되며, 최대 4 개의 다른 레이저 소스와 작동하도록 설계되었습니다. 또한, 스테퍼에는 광학 왜곡, 현장 균일성, 인쇄 품질을 줄이기 위한 소프트웨어 및 하드웨어 도구가 장착되어 있습니다. 웨이퍼 스테퍼는 단일 및 양면 포토 마스크, 표면 장착 장치 및 간헐적 인 금속 절연체 금속 (MIM) 장치와 같은 다양한 웨이퍼 기판을 처리 할 수 있습니다. 또한 정밀도가 높은 다양한 기판을 패턴화 할 수 있습니다. 또한, NES1 H4는 벽 각도 변화를 최소화 한 강성, 서브 미크론 구조, 뛰어난 오버레이 정확도, 균일 한 초점 및 더 높은 처리량을 생성 할 수있는 다양한 기능 향상 모드를 가지고 있습니다. 안전 조치 측면에서 NIKON NES1 H4는 ISO (International Standard Organization) 안전 표준을 준수하도록 설계되었습니다. "스테퍼 '의 연동 장치 는 계획 되지 않은" 레이저' 노출 으로부터 보호 하고 먼지 방지 기능 은 오염 의 위험 을 감소 시킨다. 스테퍼의 보호 코팅은 이온화 방사선 손상을 방지하며, 장치의 EEPROM (EEPROM) 은 전자기 간섭을 방지하도록 설계되었습니다. 전반적으로 NES1 H4 웨이퍼 스테퍼는 탁월한 정확도, 높은 수율, 신뢰성을 제공하는 고급 기술입니다. 이 기계 는 광범위 한 "기판 '을 정확 하게 무늬 로 만들 수 있으며, 보다 안전 한 생산 작업 을 위한 여러 가지 안전 기능 으로 설계 되었다.