판매용 중고 NIKON i8 #293593221

NIKON i8은 반도체 제조 시설에 사용하도록 설계된 리소그래피 웨이퍼 스테퍼입니다. 이 장치는 워드 라인 패턴화 (word line patterning) 에서 더블 패턴 (double-patterning) 및 스태킹 레이어 (stacking layer) 에 이르기까지 다양한 사진 해설을 수행할 수 있습니다. NIKON I 8에는 다양한 최신 반도체 리소그래피 구성 요소가 장착되어 있으며, 최대 해상도와 균일성을 위한 2 개의 High-NA 렌즈가 있습니다. 이 시스템에는 또한 다양한 스테퍼 단계, 정확한 위치 지정 메커니즘, 조명 시스템, 도량형 악기 및 정확한 정렬 및 패턴을위한 셀룰러 로봇 (cellular robotics) 이 제공됩니다. 회전 스캔 필드와 고급 고해상도 이미징 기능을 통해 i8 은 대규모 리소그래피 (lithography) 프로세스와 소규모 작업을 처리할 수 있습니다. I 8은 고정밀 정렬, 웨이퍼 스캔 기능 등 다양한 성능 향상을 제공합니다. 나노미터 해상도 (nanometer resolution) 와 반복성 (repeatability) 을 갖춘 매우 정확한 포지셔닝 단계를 통해 마스크와 템플릿을 정확하게 오버레이하고 배치할 수 있습니다. NIKON i8에는 높은 NA 투영 렌즈가 있으며, 이는 0.1äm 이상의 크기의 기능을 정확하게 인쇄하는 유연성을 제공합니다. 이를 통해 극도의 정밀도를 갖춘 패턴을 만들 수 있으며, 더욱 세밀한 울트라 대규모 통합 (ULSI) 반도체 장치를 인쇄할 수 있습니다. 투영 렌즈는 프로그래밍 가능한 균일 한 필드 조명 시스템 (uniform field illumination system) 과 결합하여 필요에 따라 정밀 조명 매개변수를 정의 할 수 있습니다. 또한 NIKON I 8에는 위치 정밀도 및 레이어 오버레이를 평가하는 고급 도량형 모듈이 포함되어 있습니다. 이렇게 하면 인쇄 정확도에 대한 이해를 얻을 수 있으며, 패턴 확인 (pattern verification) 및 수정 (correction) 프로세스에 도움이 됩니다. I8은 또한 스택 레이어 프로세싱 및 이중 패턴화가 가능합니다. 이 장치는 자동 정렬 기능 (auto-alignment feature) 과 고급 로봇 공학 (advanced robotics) 을 사용하여 3D 장치 구조와 같은 복잡한 작업을 처리할 수 있으며 기본 레이어를 손상시키지 않고 저항 패턴의 일부를 에치할 수도 있습니다. 이 장치는 또한 자동화된 로봇 처리 프로세스 (robotic handling process) 와 빠른 웨이퍼 교환 속도 (wafer exchange speed) 를 통해 높은 처리량과 낮은 결함률을 지원합니다. 마지막으로 I 8 (I 8) 은 설치 공간이 작아 다양한 환경에서 쉽게 설치할 수 있도록 설계되었습니다. 또한 가장 까다로운 제조 환경에서도 안정성을 보장합니다. 이것은 고급 기능과 결합하여 NIKON i8을 반도체 리소그래피 요구를위한 우수한 솔루션으로 만듭니다.