판매용 중고 NIKON i7 #9280560

NIKON i7은 고급 반도체 장치 생산을 위해 설계된 포토 리토 그래피 스테퍼 장비입니다. 이 시스템은 정밀도, 안정성, 높은 처리량을 조합하여 하이엔드 나노미터 (nanometer) 규모의 제작에 이상적인 도구입니다. 이 기계는 I 라인 248nm UV 투사 광원을 사용하며, 이는 고해상도, 정확하고 반복 가능한 이미지를 제공합니다. 웨이퍼 스테이지는 매우 정확하며, 5mm 범위의 포커스에서 최대 0.12 미크론을 변위 할 수 있습니다. 이 장치에는 또한 2 개의 독립적 인 스캔 모터가 포함되어 있어 독립적으로 최적화 된 도핑 및 에칭이 가능합니다. NIKON I 7은 다용성과 확장성을 위해 제작되었으며, 다양한 스테퍼 폭과 해상도에 맞게 소프트웨어를 구성할 수 있습니다. 이 기계는 최대 21mm x 21mm의 다이 크기를 마스크 할 수 있습니다. 원 크기 선택 가능 (selectable circle size) 의 기능이 추가되면 최대 5 미크론 크기의 원을 쉽게 생성할 수 있습니다. I7은 NIKON 플래그십 Mirrorless Direct Drive Solutions 플랫폼을 기반으로 설계되었으며, 매우 정확하고 안정적이며 신뢰할 수 있는 이미징 기능을 제공합니다. 이 플랫폼에는 고급 듀얼 칩 아키텍처 (Dual Chip Architecture) 와 고급 정밀 안정화 기술 (Precision Stabilization Technology) 이 장착되어 있어 처리량이 가장 높고 수익률이 높습니다. Mirrorless Direct Drive 플랫폼은 또한 최적화된 드리프트 보상, 고급 지능형 최적화 알고리즘 및 자동 초점 제어를 제공합니다. 이 도구는 쉽게 작동할 수 있도록 직관적인 소프트웨어 인터페이스를 갖추고 있습니다. 사용자는 노출 모양, 피크 용량, 스캔 속도, 빔 너비 등 다양한 노출 매개변수를 선택할 수 있습니다. 이 에셋을 사용하면 다양한 소스에서 사용자 정의 (custom) 로 디자인된 패턴과 데이터를 가져올 수도 있습니다. I 7 은 청소실 환경에서 작동하도록 설계되었으며, 진동 및 열 왜곡 (thermal distortion) 을 줄이기 위한 고급 격리 기술을 갖추고 있습니다. 이 모델은 또한 고급 취급 장비를 사용하여 웨이퍼 (wafer) 와 스테퍼 웰 (stepper well) 의 안전한 적재 및 언로드, 공기 운영 체제를 사용하여 미립자 오염을 최소화합니다. NIKON i7은 고급 반도체 장치 생산에 뛰어난 옵션입니다. 정밀도 (Precision) 와 신뢰성 (안정성) 을 결합하여 높은 처리량을 달성하면서 정확한 결과를 지속적으로 얻을 수 있습니다. 시스템의 다양성, 확장성, 직관적인 소프트웨어 인터페이스는 사용자에게 친숙한 환경을 보장합니다.