판매용 중고 NIKON i7 #9205849

NIKON i7은 반도체 제작 프로세스에 사용되는 웨이퍼 스테퍼입니다. 파퍼 (wafer) 표면의 패턴화 (pattern) 와 크기 변화 (size variations) 에 사용되어 복잡한 전자 부품의 대량 생산에 필수적인 기계입니다. NIKON I 7은 렌즈, 프리즘, 미러와 같은 일련의 정밀 광학 구성 요소뿐만 아니라, 웨이퍼 (wafer) 기능을 정확하게 감지하고 최소한의 변형을 통해 정확하게 재현하도록 설계된 고도로 정교한 소프트웨어를 갖추고 있습니다. 이는 생산 프로세스의 반복성과 신뢰성을 보장합니다. 이 기계는 풀 필드 노출 모듈, 스테퍼 유닛, 2 개의 평탄도 센서, 플랫 드라이어 및 포스트 노출 장치를 포함하는 고효율 광석기 기술을 갖추고 있습니다. 건조기 (dryer) 는 빛 에너지에 노출 된 후 웨이퍼 표면을 말리는 데 사용되며, 노출 후 단위 (post-exposure unit) 는 웨이퍼 표면을 패턴화하는 중요한 단계를 수행합니다. I7은 최대 200mm 직경의 웨이퍼를 수용 할 수 있습니다. 고급 이미징 (Advanced Imaging) 장비는 뛰어난 처리율과 정밀한 라인 너비 제어를 제공하여 프로세스 엔지니어가 우수한 장치 생산량을 제공할 수 있습니다. 이 기계에는 프로세스를 최적화하고 잠재적 인 결함 형성 영역을 제거하기 위해 독특한 DDM (Defect Density Monitoring System) 이 제공됩니다. 이 장치는 장치의 결함을 자동으로 감지, 기록, 분석하여, 엔지니어가 비정상적으로 높은 결함 농도를 가진 특정 영역을 파악하고, 이를 없애기 위해 필요한 단계를 수행하도록 합니다. 또한 I 7은 OPC (Optical Proximity Correction) 표준을 준수하여 엔지니어가 생산에서 최적의 석판 성능을 지속적으로 달성 할 수 있습니다. 공정 엔지니어는 이 기능을 DDM 머신과 결합함으로써, 일관된 수율로 높은 품질의 컴포넌트 (component) 수율을 보장할 수 있습니다. 마지막으로, NIKON i7은 자동 교정 도구를 사용하여 생산 정확도를 높이고 오류를 최소한으로 줄입니다. 이를 통해 기계는 최적의 지점에서 성능을 발휘할 수 있으며, 처리량 (throughput rate) 과 제품 (product) 수율 모두 오랜 시간에 걸쳐 향상됩니다.