판매용 중고 NIKON i12 #9364674

NIKON i12는 높은 처리량과 정확도가 필요한 고급 리소그래피 (lithography) 어플리케이션을 위해 특별히 설계된 고정밀도, 고도로 자동화된 웨이퍼 스테퍼입니다. 적응 단계, 다단계 초점 깊이, G-seal 스캐너 등의 고급 기술이 장착되어 있습니다. 웨이퍼 스테퍼는 EUV (Extreme Ultra-Violet), 몰입 리소그래피 및 레이저 유도 열 이미징 (LITI) 을 포함한 광범위한 리소그래피 프로세스에 사용하도록 설계되었습니다. 스테퍼에는 최대 12 "x6" 의 스캔 필드 크기, 다중 레벨 초점, 정확한 노출과 PPR (Pattern Placement Reticule) 을 보장하는 고해상도 이미징 장비가 있습니다. 웨이퍼 스테퍼 (wafer stepper) 에는 노출 전에 웨이퍼를 정확하게 정렬하고 배치하는 적응 스테이지가 장착되어 있습니다. 또한 G-seal 광 스캐너와 정확한 패턴 배치 및 검사를 위해 노출 모니터링 시스템 (Exposure Monitor System) 이 장착되어 있습니다. 또한 동작 및 포커스 축을 웨이퍼 (wafer) 및 패턴 위치에 자동으로 정렬할 수 있습니다. NIKON I 12 웨이퍼 스테퍼는 복잡한 패턴 배치를위한 고급 제어 옵션도 제공합니다. 추가 보호 장치 (protection and control unit) 는 먼지 입자 또는 기타 외계 입자가 이미징 기계에 들어가는 것을 방지합니다. 이렇게 하면 이미징 도구의 무결성을 유지하여 정확도와 해상도를 높일 수 있습니다. 또한 I12 웨이퍼 스테퍼에는 렌즈 인식 기능, 직관적인 GUI (Graphical User Interface) 및 I 12 Viewer 소프트웨어와 같은 몇 가지 재미있는 기능이 있어 노출 데이터를 빠르고 쉽게 미리 볼 수 있습니다. 이러한 기능을 통해, 사용자는 노출되기 전에 복잡한 패턴 모양과 밀도를 시각화할 수 있습니다. NIKON i12는 대용량 운영 및 중요 애플리케이션에 높은 처리량과 정확성을 제공합니다. 또한 관성 및 환경 보상, 광학 보상 (Optical Compensation) 기능을 제공하여 환경 또는 위치 변형을 수정합니다. 모듈식 구성은 업계 표준 마스크 세트 (maskset) 및 렌즈 (lens) 패키지와의 호환성을 제공하며 다양한 리소그래피 응용 프로그램으로 작업할 때 유연성을 제공합니다. 이러한 모든 기능 외에도 NIKON I 12에는 자동 인덱싱, 배치 처리 등의 정교한 자동화 기능이 있습니다. iNspect, iLitho 및 iExposure와 같은 NIKON 고급 석판화 도구 (예: 석판 응용 프로그램의 까다로운 요구 사항을 충족하고 초과하도록 설계) 에서 지원됩니다. 고급 기능 및 기술을 갖춘 i12는 고급 석판화 기술을위한 완벽한 도구입니다.