판매용 중고 NIKON i12 #9168034

NIKON i12는 고급 기능과 성능을 갖춘 하이엔드, 대용량 웨이퍼 스테퍼입니다. IC 및 반도체, 광전자 및 MEMS와 같은 다른 구성 요소를 제조하는 데 사용할 수 있습니다. NIKON I 12는 전체 마스크 정렬 장비를 갖추고 있어 비아 (vias), 접촉 (contact), 라인 (line) 과 같은 작은 기능을 매우 정확하게 노출할 수 있습니다. 또한, 이 시스템은 2.5 ~ 5배의 감소 필드 기능을 자랑하여 높은 생산 처리량을 제공합니다. I12는 266mm 스테퍼이며 이미지 크기는 최대 200mm x 200mm, 감소 속도는 0.3에서 5X입니다. 노출 유형은 레티클을 처음 정렬하지 않고 해상도를 개선하기 위한 LED Lamination 용 LED Field Array입니다. 또한 특허 출원 중인 여러 기술로 왜곡, 번짐, 초점 오류를 줄일 수 있습니다. I 12에는 "Deep Screen Array" 를 나타내는 DSA 기술이 장착되어 있습니다. 이는 최소 기능 크기 (제조 업체에 대한 약속) 에서 노출될 수 있습니다. 또한 더 나은 웨이퍼 품질과 향상된 수율을 제공합니다. NIKON i12 웨이퍼 스테퍼는 듀얼 IC 노출 기계 (Dual IC Exposure Machine) 를 사용하여 열 드리프트의 영향을 최소화하여 높은 성능과 정확도를 제공합니다. 이 도구는 전자 스티칭 (electronic stitching) 을 특징으로하며, 여러 레티클의 안정적인 등록이 가능합니다. 또한, 높은 정확도의 Marker Sign Analysic으로 전체 웨이퍼 등록을 수행 할 수 있습니다. NIKON I 12 웨이퍼 스테퍼는 또한 고급 노출 프로세스로 우수한 노출을 자랑합니다. RVB (Reduced Vector Beam) 기술은 노출 시간을 최소화하고 노출 오류를 줄입니다. 또한 낮은 질량, 고속 스테이지 및 무진동 (vibration-free) 구조로 노출 시간을 최소화하여 더 넓은 노출 범위를 위한 프로세스 최적화를 지원합니다. I12는 고급 이미징 분석으로 향상된 이미징 기능도 제공합니다. 여기에는 임계 치수 오버레이 제어와 함께 로컬 다크 노출 제어 (dark exposure control) 및 다크 노출 (dark exposure) 이 포함됩니다. 이미징 소프트웨어는 또한 잠재적 결함을 예측하고, 프로세스 드리프트 (drift) 를 확인하고, 뛰어난 이미지 품질을 제공하는 데 사용될 수 있습니다. I 12 웨이퍼 스테퍼는 제조업체가 엄격한 마감 시한을 전달할 수있는 최첨단, 고정밀 기능을 제공합니다. 이 자산은 최고의 효율성, 반복 가능한 결과, 생산에 대한 내구성, 신뢰성을 위한 자동화를 제공합니다. 또한 사용하기 쉽고 에너지 효율적이며, 비용 효율적인 운영을 제공합니다.