판매용 중고 NIKON i11D #9118194

NIKON i11D는 반도체 기판에 전자회로 패턴을 광석학적으로 노출시키는 고성능, 고정밀 장치입니다. 고급 옵틱 (Optic), 조명 감소 (Reduced Illumination) 및 고해상도 이미징 (High Resolution Imaging) 을 사용하여 단일 웨이퍼에 다양한 장치를 정확하게 패턴화하는 풀 필드 스테퍼입니다. 일반 회로 처리에 사용되지만, 고급 반도체 장치 및 MEMS 회로의 복합 및 프로토 타입 제작에 가장 일반적으로 사용됩니다. NIKON I 11 D는 금속 패턴 영역이있는 요소 인 포토 마스크 (photomask) 를 사용하여 웨이퍼 기판의 회로 패턴을 정의합니다. "레이저 '광선 은" 마스크' 위 로 향하고 반사 광선 은 거꾸로 되어 기판 위 로 향한다. 이 프로세스는 완전히 형성된 웨이퍼를 만들기 위해 최대 16 번 반복됩니다. 스테퍼는 12 UU 이하의 크기를 가진 고급 회로 패턴을 생성 할 수 있습니다. I11D는 사용자가 기판을 최대화할 수 있는 효율적인 도구입니다. 이 장치는 고급 5 피스 SMIF (Standard Mechanical Interface Format) 하드웨어와 고해상도 광학 시스템으로 제작되었습니다. 스테퍼는 다이 크기를 극대화하고 중요한 치수 변화를 줄이기 위해 독특한 '스팟 프린트' 기술을 갖추고 있습니다. 스테퍼는 또한 제조 공정에서 칩 수율을 극대화하기 위해 조명 균일성 (lumination unifority) 으로 설계되었습니다. I 11 D에는 CATS SE2, NIKON 독점 이미징 소프트웨어와 같은 다양한 이미징 소프트웨어가 포함되어 있으며, 운영자는 사용자 친화적 인 인터페이스를 통해 스테퍼를 쉽게 제어 할 수 있습니다. CATS SE2에는 프로젝트 매개변수를 정확하게 조정하는 데 도움이 되는 사용자정의 가능한 피쳐 세트, 보기 도구, 분석 도구가 있습니다. NIKON i11D는 다양한 photolithography 응용프로그램에서 뛰어난 성능과 생산량을 달성할 수 있습니다. 전체 시스템은 고품질 이미징 시스템을 제공하며 시제품 (prototyping) 이나 중소용량 (medium-small-volume) 생산에 적합합니다. NIKON I 11 D는 생산 주기의 핵심이며, 신뢰할 수 있고 반복 가능한 사진 분석 프로세스를 사용자에게 제공합니다.