판매용 중고 NIKON i11D #293797472

NIKON i11D는 NIKON Corporation에서 제조 한 다중 계층, 고해상도 웨이퍼 스테퍼입니다. 반도체 업계에서 마이크로칩 (microchip) 의 고정밀 석판화 처리를 위해 설계되었으며, 가장 발전된 스텝퍼 중 하나입니다. 높은 정렬 정확도, 우수한 노출 정확도, 뛰어난 오버레이 특성을 제공하여 가장 복잡한 구조를 정확하게 생성 할 수 있습니다. NIKON I 11 D의 최대 해상도는 0.1 마이크로 미터로, 정밀한 리소그래피 재생산 및 마이크로 칩 최적 제작이 가능합니다. 미세한 선/공간 기능을 가진 장치 디자인의 패턴을 0.11 äm까지, 3D 구조의 경우 0.25 äm까지 낮출 수 있습니다. 광학 장비는 자외선 (UV) 에서 심자외선 (DUV) 스펙트럼까지 광범위한 노출 파장을 가능하게합니다. 현미경 기능을 갖춘 고급 정렬 카메라 시스템 (Advanced Alignment Camera System) 은 2 ½ m 정도의 작은 기능을 감지하며, 자동 리소그래피 동기화 장치는 각 패턴 레이어의 최고 정확도를 보장합니다. I11D는 350mm x 350mm 크기의 큰 단계를 가지고 있으며, 직경이 최대 300mm 인 대형 웨이퍼를 처리 할 수 있습니다. 또한 "패터닝 '중 에" 스테이지' 내 의 매끄러움 을 증가 시키기 위한 특수 "웨이퍼 '처리 장치 가 갖추어져 있다. 이를 통해 웨이퍼 처리 시간 (Wafer Processing Time) 과 비용 (Cost) 을 모두 절약하는 단일 프로세스로 다중 노출을 구현할 수 있습니다. 또한, I 11 D에는 기판 준비를위한 특수 청소 도구가 있으며, 기판 패턴의 검사 및 모니터링을위한 매우 정확한 현미경이 있습니다. 이 검사 및 모니터링 기능을 통해 각 구성 결과를 최적화할 수 있습니다. 또한 고유한 자동 조정 에셋 (auto-adjustment asset) 을 통해 여러 레이어 두께에 대한 초점 수준을 변경하고 최고 품질의 패턴화를 보장할 수 있습니다. 전반적으로 NIKON i11D는 강력한 차세대 웨이퍼 스테퍼로, 고급 마이크로칩 제작 프로세스에 안정적인 성능을 제공합니다. 고해상도, 폭넓은 노출 파장 범위, 강력한 처리 및 청소 시스템, 그리고 정확한 검사 기능을 통해 탁월한 리소그래피 (lithography) 결과를 얻을 수 있습니다.