판매용 중고 NIKON i11 #9296413

NIKON i11은 optics 및 optics 기반 기술 분야의 주요 이름 인 NIKON에서 제조 한 웨이퍼 스테퍼입니다. NIKON I 11 웨이퍼 스테퍼는 5 축 정렬 기술을 사용하여 반도체 웨이퍼에 포토레지스트 (photoresist) 를 정확하게 배치하고 패턴화하는 매우 효율적이고 정확한 장비입니다. 전문 첨단 어플리케이션을위한 나노미터 스케일 웨이퍼 (nanometer-scale wafer) 를 만드는 데 이상적입니다. 독점적 인 5 축 사후 정렬 시스템 덕분에 i11은 일치하지 않는 정확도로 photoresist 패턴을 인쇄 할 수 있습니다. 이 장치를 사용하면 응용 프로그램 프로세스 동안 웨이퍼 스테퍼 (Wafer Stepper) 가 광학을 조정하여 웨이퍼 (Wafer) 의 패턴과 대상 (Target) 사이의 변형을 보완할 수 있습니다. 따라서 다른 웨이퍼 스테퍼 (Wafer Stepper) 솔루션에 비해 정확도가 훨씬 높아지며 최종 제품의 구조적 무결성이 가장 높고 성능을 극대화할 수 있습니다. I 11은 혁신적인 2 빔 노출기 (two-beam exposure machine) 와 같은 다양한 기능을 자랑하며, 이를 통해 직경 150mm 크기의 웨이퍼 (wafer) 에 복잡한 포토 esist 패턴을 빠르게 놓을 수 있습니다. 또한, 이 도구를 사용하면 빔 각도를 전환하거나 번거로운 리타게팅 (retargeting) 을 수행하지 않고도 여러 노출 모드를 인쇄할 수 있습니다. 니콘 이11 (NIKON i11) 은 또한 고속 이미지 캡처 자산을 통해 애플리케이션 패턴을 정확하게 기록하고 타겟에서 가장 작은 편차를 감지할 수 있습니다. 이것은 양면 포토레시스트나 웨퍼 (wafer) 와 같은 도전적인 구조의 웨이퍼를 동일한 코팅 패턴으로 인쇄 할 때 특히 유용합니다. 또한 NIKON I 11에는 의료 기기 제조업체의 요구를 충족시키는 기능도 포함되어 있습니다. 그것 은 원료 "입력 '을 받아들여 높은 정도 의 정확도 로 기판 에 공급 할 수 있다. 또한, 이 모델은 인쇄되기 전에 포토 esist 패턴의 정확한 위치를 정확히 지적하기 위해 LBDM (Laser Based Displacement Measurement) 을 수행 할 수 있으며, 의료 기기 제조업체는 패턴에 대한 일관되게 높은 수준의 정확도를 가질 수 있습니다. 이 최첨단 웨이퍼 스테퍼는 편리한 작동을 위해 제작되었습니다. 고성능 200W 레이저를 사용하면 포토레시스트 (photoresist) 패턴을 빠르게 인쇄하고 품질이 저하되지 않고 마무리할 수 있습니다. 또한, 프로세싱 다양성을 강화하기 위해 i11을 재구성 및 업그레이드할 수 있습니다. 이를 통해 제조업체는 웨이퍼 처리 기술 (wafer processing technology) 의 발전에 부응하고 I 11을 탁월한 투자로 만들 수 있습니다.