판매용 중고 NIKON i10C #293814170

NIKON i10C는 NIKON Corporation에서 개발 한 고급 웨이퍼 스테퍼입니다. NIKON I 10 C는 투사 렌즈 기반 광학 장비를 갖추고 있으며, 뛰어난 이미지 해상도와 균일성을 제공합니다. 리토그래피 (lithography) 에 고출력 LED (High-power LED) 를 사용하며, 다양한 특수 웨이퍼 기판과 호환되므로 특수 광 요소가 필요하지 않습니다. 이 기계는 반도체 장치 제작을 포함한 다양한 정밀 마이크로 리토 그래피 (micro-lithography) 애플리케이션에 적합합니다. I10C의 이미징 시스템은 최대 0.5 마이크로미터 해상도의 노출을 제공할 수 있으며, 그림자 마스크, 위상 이동, 이진, 연속 스캐닝과 같은 광범위한 노출 및 마스크 제작 기술을 지원합니다. 이미징 장치는 또한 0.25 마이크로미터의 얇은 선과 0.2 마이크로미터의 작은 공간 (open space) 을 포함하여 가장 복잡한 패턴을 생성 할 수 있습니다. I 10 C에는 생산성과 정확성을 향상시키는 추가 기능도 장착되어 있습니다. 동력 웨이퍼 스테이지는 정확한 노출을위한 정밀 이동을 제공하며, 자동 초점 기능은 빠른 웨이퍼 정렬에 사용될 수 있습니다. 고정밀 경사 알고리즘은 이미지 왜곡 없이 고품질 이미징 레벨을 보장합니다. 또한, 극도로 정확한 침수 액체 챔버 (immersion liquid chamber) 는 뛰어난 평면 내 균일성과 동적 안정성을 제공하여 수율 (yield rate) 을 높입니다. 또한, NIKON i10C의 독특한 웨이퍼 조정기는 웨이퍼 왜곡을 최소화하면서 빠르고 정확한 결합 웨이퍼 노출을 가능하게하도록 설계되었습니다. 이 도구는 이미지 회전 및 스캔 반복에 의해 소프트웨어 제어 스캐닝 및 유리 기판 이동을 모두 제공합니다. 이러한 기능을 통해 NIKON I 10 C는 다양한 웨이퍼 크기와 형태에 대해 매우 효율적인 노출을 제공할 수 있습니다. 전체적으로, i10C는 가장 고급 마이크로 리토그래피 응용 프로그램을 지원하도록 설계된 강력한 웨이퍼 스테퍼입니다. 고정밀 이미징 자산, 전동 웨이퍼 스테이지, 자동 초점 기능, 뛰어난 평면 내 균일성 및 동적 안정성, 효율적인 노출 조정 모델은 I 10 C를 NIKON 최고의 기계 중 하나로 만드는 기능 중 일부입니다.