판매용 중고 KMS Vision #9223591

KMS 비전 (KMS Vision) 은 반도체 장치 제작 프로세스에서 높은 수율과 광학 성능을 가능하게 하는 고급 웨이퍼 스테퍼입니다. 패턴 에칭을 위해 마스크에 웨이퍼를 정밀하게 정렬할 수 있습니다. 이 시스템은 와퍼의 완벽한 이미지를 위해 스펙트럼 이미징 기술 (spectral imaging technology) 을 갖춘 고급 리소그래피 (lithography) 솔루션을 사용하며, 자체 독점 과잉 샘플링 기술을 통해 리소그래피 단계의 정확성과 반복성을 향상시킵니다. 비전 시스템은 두 가지 주요 구성 요소 (스테퍼 및 보조 시스템) 로 구성됩니다. 스테퍼는 광학 요소, 스테이지, 포토 마스크 (photomask) 가 장착 된 금속 및 정밀 선형 가이드의 구조적 플랫폼입니다. 스테퍼 (stepper) 는 기판에 포토 마스크 배치, 정확한 정렬 및 높은 정확도로 웨이퍼 (wafer) 에 패턴의 반복성을 위해 컴포넌트에 대한 정확한 위치 제어를 제공합니다. 보조 시스템에는 정렬 장치, 조명기 및 카메라가 포함됩니다. 카메라는 포토마스크 (photomask) 의 픽셀을 분석하고 원하는 피쳐를 식별할 수 있으며, 정렬 장치 (Alignment Unit) 를 사용하면 여러 피쳐를 빠르고 정확하게 정렬할 수 있습니다. 조명기는 포토 마스크 (photomask) 를 정확하게 비추고 정렬 및 패턴화를 위해 밝은 광원을 제공합니다. KMS Vision의 고급 웨이퍼 스테퍼는 분광형 이미징, 하이브리드 웨이퍼 매핑 (hybrid wafer mapping), 고급 리소그래피 시스템 (lithography system) 과 같은 고유한 기능을 통해 높은 생산 속도와 정확도를 제공합니다. 고정밀 정밀 정렬 기능을 통해 포토 마스크의 기능을 정확하게 1 미크론까지 패턴화 할 수 있으며, 서브 0.2 미크론 광해상도 (subs 0.2 micron optical resolution) 는 유사한 제품에 비해 가장자리를 제공합니다. 초고해상도 (Ultra-High Resolution) 포지셔닝 기능을 통해 마스크 (Mask) 를 웨이퍼의 가장 작은 영역에 정확하게 배치하여 수율을 높일 수 있습니다. Vision은 또한 여러 수준의 조명을 허용하는 4X의 놀라운 스팟 크기 변화를 제공합니다. 고급 제어 시스템 (Advanced Control System) 은 패턴을 최적화하여 광학 성능을 향상시키기 위해 더 잘 초점을 맞출 수 있습니다. 또한, 동적 단일 렌즈 교정 (dynamic single lens correction) 은 다양한 노출 목표에 대한 광범위한 광학 교정 옵션을 제공하며, 노출되기 전에 초점 외 패턴을 감지하여 더 높은 수율과 향상된 광학 성능을 제공합니다. 전반적으로 KMS Vision Advanced High Speed Wafer Stepper는 처리량과 성능이 필수적인 고정밀도 및 고수율 기판 제작 작업에 이상적인 선택입니다.