판매용 중고 GCA XLS #111828

GCA XLS 웨이퍼 스테퍼는 반도체 업계에서 웨이퍼 제조 공정에 사용되는 고도로 자동화 된 도구입니다. 집적 회로 및 MEMS 부품의 광학 및 전자 회로 형성을위한 리소그래피 (lithography) 와 같은 다양한 리소그래피 프로세스에 일반적으로 사용되는 DUV 스테퍼입니다. XLS 웨이퍼 스테퍼 (XLS Wafer Stepper) 는 최대 6x6 인치의 투사 이미지 크기를 가진 멀티 빔 투영 노출 도구입니다. 고급 옵틱스 (Optics) 설계 및 독점 소프트웨어를 통해 높은 처리량과 정확도를 달성할 수 있습니다. 멀티 빔 노출 도구는 경량 제어가 향상된 효율적이고 고품질의 광학 이미징 프로세스를 제공합니다. GCA XLS 웨이퍼 스테퍼는 3 "- 8" 범위의 다양한 마스크 프레임 (최대 8 "x8") 및 모든 크기의 웨이퍼를 처리 할 수 있습니다. 스테퍼에는 1.5um 정확도와 최대 200Km (20000 초) 의 노출 속도가 가능한 노출 장치를 갖춘 고급 비 접촉 스테이지 장비가 있습니다. 또한 4nm 정확도의 독특한 마스크 정렬 시스템을 제공합니다. 강력한 모터를 사용하면 X 축과 Y 축 모두에 대해 4nm, 세타 축에 대해 8nm의 해상도를 달성 할 수 있습니다. 또한 XLS 웨이퍼 스테퍼 (XLS Wafer Stepper) 에는 연속 공기 머신과 2 단계 여과 도구가 장착 된 공기 청소 장치가 내장되어 있습니다. 스테퍼는 또한 스트로브 에셋 (strobe asset) 과 향상된 스트로브 (enhanced strobe) 를 특징으로하여 편광된 광원 (polarized light) 및 지형기 기능과 같은 특수 이미지 오버레이를 사용할 수 있습니다. 자동 레벨 정렬 (automated level alignment) 모델을 사용하면 스테퍼가 웨이퍼의 기울기를 정확하게 측정하고 최고 품질의 노출을 확인할 수 있습니다. GCA XLS 웨이퍼 스테퍼는 복합 및 이진 마스크 레이어를 모두 처리 할 수 있습니다. 또한 내장된 고정밀도 등록 기능이 있는 전용 조회 테이블 (lookup table) 과 정렬 데이터 및 마스크 패턴의 고밀도 편집이 가능한 픽셀 레벨 편집기 (pixel level editor) 를 사용하여 웨이퍼 정렬 장비를 처리할 수 있습니다. 전반적으로 XLS 웨이퍼 스테퍼 (XLS Wafer Stepper) 는 최첨단 기술로 반도체 제품 제조에 강력하고 정확한 솔루션을 제공합니다. 첨단 기술과 독자 소프트웨어 (Proprietary Software) 는 높은 수준의 처리량과 정확도를 제공하여 반도체 생산에 매우 효과적인 툴이 됩니다.