판매용 중고 GCA AutoStep 200 #293639166

ID: 293639166
웨이퍼 크기: 6"
i-Line stepper, 6" 1995-1996 vintage.
GCA AutoStep 200은 GCA Corporation이 개발 한 정교한 웨이퍼 스테퍼입니다. 회로 패턴을 웨이퍼 표면으로 전송하는 데 사용되는 고급 리소그래피 (lithography) 도구입니다. 스테퍼는 특허를받은 OMPD (Optical Micro-Projection Display) 기술을 사용하여 매우 정밀한 디지털 이미지를 웨이퍼에 투사합니다. 이 기술은 이미징 왜곡을 최소화하며, 정확하고 신뢰할 수 있는 감광 장치를 생산할 수 있도록 합니다. GCA AUTO-STEP 200 장비에는 고급 디지털 이미징 및 이미지 처리 시스템과 쌍을 이루는 강력한 광학 시스템이 장착되어 있습니다. 이 조합은 사용자가 고해상도 (high-resolution) 결과, 뛰어난 반복성, 나노미터 스케일 정밀도 (nanometer-scale precision) 기능과 대형 다이 (die) 장치를 모두 설계, 인쇄 및 처리하는 다양한 기능을 제공합니다. 기계의 중심부에는 다중 단계, 적응력이 높은 투영 장치가 있으며, 최소 스캐닝 피치는 2.5 (m), 최대 마스크는 40 (m) 입니다. 이 기계에는 렌즈와 특허를 받은 피드백 (feedback) 메커니즘이 포함되어 있어 매우 낮은 라인 에지 (line edge) 거칠기와 낮은 라인 너비 오류를 유지하고 전체 이미지를 기울입니다. 최고의 정밀 작업을 위해 AutoStep 200 은 Flare, 수차, 음영과 같은 모든 광 결함을 수정할 수 있는 고급 자동 수정 서비스를 제공합니다. 자동 단계 200 (AUTO-STEP 200) 은 또한 회로 패턴을 웨이퍼로 정확하게 전송하는 강력하고 신뢰할 수있는 노출 도구를 갖추고 있습니다. 이 에셋은 필드 플랫 렌즈 (field flattening lenses), 빠른 스캔 속도 (rapid scan speed) 및 뛰어난 반복 능력을 갖추고 있어 정확하고 복잡한 장치를 생산할 수 있습니다. 고유한 노출 정렬 모델 (Exposure Alignment Model) 은 Wafer에 회로가 올바르게 정렬되도록 하며, 잘못된 정렬로 인한 오류 또는 왜곡이 제거됩니다. GCA AutoStep 200에는 다른 석판화 시스템 및 프로세스, 먼지 억제 옵션, 특수 진단 및 모니터링 옵션 등을 통합하는 입출력 포트 (input/output port) 와 같은 여러 가지 최신 기능이 장착되어 있습니다. GCA AUTO-STEP 200은 사용자에게 탁월한 정확도, 정밀도 및 품질의 결과를 제공하는 것 외에도, 매우 효율적이며, 대규모 프로젝트에 대해 빠른 설정 시간, 대규모 석판화 단계, 확장된 노출 시간을 제공합니다. 사용 편의성, 빠른 회전 시간 (turn-around time) 을 통해 신뢰할 수 있는 자동화된 석판화 도구를 원하는 전문가의 선택이 가능합니다.
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