판매용 중고 GCA ALS #35132

제조사
GCA
모델
ALS
ID: 35132
웨이퍼 크기: 6"
Stepper, G-line (Ziess 10-78-46), 5X reduction, .38NA, .9um resolution, configured for 6" wafers and can be changed to any size, running and ready for demo.
GCA ALS (Application Light Source) 는 사진 해설에 사용되는 웨이퍼 스테퍼입니다. 이 제품은 반도체 웨이퍼 (wafer) 및 기타 관련 재료의 생산을 위해 고정밀 광학 이미징 (optical imaging) 및 패턴 정렬 기능을 제공합니다. ALS에는 최대 6,000nm의 오리지널 포토 마스크 조명과 최대 10,000nm 이미징 해상도의 8 채널 LED 시스템이 장착되어 있습니다. GCA ALS (Advanced Optical Transport System) 는 고급 광학 전송 시스템을 사용하여 포토 마스크에서 웨이퍼 표면으로의 빛을 정확하게 정렬합니다. 즉, 이미징 결과가 정확하고 오류가 없도록 합니다. ALS에는 비 금속 및 비 산화물 마스킹 레이어 (non-metal 및 non-oxide masking layer) 절제를위한 특수 레이저 에너지원이 장착되어 있습니다. 전반적으로, GCA ALS는 반도체 재료 생산과 관련된 다양한 패턴화 프로세스를 수행 할 수 있습니다. ALS 머신을 사용하면 고해상도 이미징, 고급 마스크 정렬과 같은 고급 기능을 구현할 수 있습니다. 이 기계는 또한 멀티 레이어 스택 웨이퍼 처리 시스템 (multi-layer stack wafer handling system) 을 갖추고 있으며, 사용자에게 완전한 먼지 및 결함 제거 옵션을 제공합니다. 처리량 및 정확성 향상을 위해 GCA ALS에는 진정한 마이크로 스테퍼 스캐닝 (micro-stepper scanning) 메커니즘이 장착되어 있어 단일 노출 필드 내에서 동작을 정확하게 최적화할 수 있습니다. 또한, ALS는 임베디드 레이저 마킹 (embedded laser markings) 기술 덕분에 위치 및 초점 레이어 모두에 대한 실시간 오류 감지 및 교정이 가능합니다. GCA ALS는 또한 모든 IC (Integrated Circuit) 제조 단계에 대한 프로세스 레시피 도입을 지원하며, 이를 통해 사용자는 다양한 애플리케이션을 위해 최적화된 프로세스를 개발할 수 있습니다. 이 기계는 최신 광학 이미징 (Optical Imaging) 기술을 통해 가장 높은 처리량과 정확도를 제공합니다. 전반적으로, ALS는 반도체 재료의 생산을위한 정밀 이미징 및 스캐닝을 제공하는 정교한 장비입니다. 광학 전송 (Optical Transport) 과 레이저 소스 (Laser Source) 기술을 통합하면 오류 없는 결과와 사용 가능한 다양한 기능이 다양한 애플리케이션에 적합합니다.
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