판매용 중고 GCA ALS I2235 #9247980
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ID: 9247980
Stepper
Lens: TROPEL 2235
i-Line (365 nm): 0.35 NA
Field size: 22 mm
Automatic Wafer Handler (AWH): Cycle 25, 3"-8"
Automatic level wafers
RMS10: (10) Reticles, 5"
Maxi 2000: i-Line light source idles: 1000 W
AFS 100: Automatic Focusing System
MicroDFAS:
Measures local alignment system
Corrects alignment prior to stepping
SmartSet: Used to process and store data to match single / multiple steppers
Insitu probe:
Probe mounted stage and lens reduction
Rotation & focus with alignment baseline
IQ Probe:
Lamp position and light source
Accurate measure and correct dose
Programmable Platen Control (PPC):
Automatically adjust reticle load position
Integrated Alignment System (IAS):
Performs digital alignment of global target
Environmental chamber 8860 Stepper
With temperature & cleanliness
Options:
System resolution: 0.7 µm line / space
Depth of focus: 1.5 µm
Illumination uniformity: ±2.5 %
Illumination intensity: >300 mW / cm²
Open frame: No repeaters
Reduction: ±0.1 µm
Rotation: ≤0.05 µm
Telecintricity: ≤1.5 ppm / µm
Stepping repeatability: ≤0.15 µm
Global alignment: ±0.3 µm
Local alignment: ±0.2 µm
RMS reliability: 100 Cycles
Reticle blade accuracy: ±0.25 mm
AWH Reliability: 100 Wafers
AWH Accuracy: ±0.003”
Leveling repeatability: ±5 ppm from nominal.
GCA ALS I2235는 반도체 제작 및 관련 과학 목적으로 사용되는 마이크로 리토 그래피 웨이퍼 스테퍼입니다. GCA Corporation에서 제조하며 높은 정확도, 높은 처리량, 대용량 생산을 제공합니다. ALS I2235 에는 다양한 칩 크기, 모양, 복잡성 수준을 수용하면서 전체 필드 정렬을 가능하게 하는 5 축 메커니즘이 포함되어 있습니다. 이를 통해 빠른 정렬 변경 및 제품 구성 적응이 가능합니다. 또한 자동 정렬기 (Automatic Aligner) 를 장착하여 정밀한 구성 요소 수준 정렬을 위한 수동 프로세스 시간을 줄입니다. GCA ALS I2235의 중심 구성 요소 인 GSX750 노출 도구 (Exposure Tool) 는 뛰어난 노출 온도를위한 2500W Xenon-arc 램프와 비교할 수없는 정확도를 제공하는 독점적 인 정밀 광학 제어 시스템을 제공합니다. 광학 제어 시스템은 크리스탈 클리어 이미징 (crystal-clear imaging) 뿐만 아니라 다중 레벨 사진 해설을 위한 완벽한 오버레이 정렬 프로세스를 제공합니다. ALS I2235는 솔리드 바디 (Solid-Body) 프레임을 기반으로 하여 진동을 최소화하면서 다양한 칩 로딩 및 배치 내 (Intra-Batch) 정렬 기능을 제공하여 일괄 처리 (Batch-to-Batch) 로부터의 정확성과 확장성을 유지합니다. 또한 와퍼 레벨 (wafer-level), 패턴 레벨 정렬 (pattern-level alignment) 등 다양한 고급 생산성 기능을 실시간 초점 감지 및 전체 필드 정렬과 함께 제공합니다. GCA ALS I2235는 웨이퍼 (wafer) 에서 웨이퍼 (wafer) 정렬에 이르기까지 매우 효율적인 워크플로우 및 프로그래밍 가능한 칩 형상 기능, 다중 모서리 감지 옵션 등의 고급 자동화 기능을 갖추고 있습니다. 이러한 기능을 사용하면 정확도, 반복 가능성, 최소화된 수동 워크플로우 (manual workflow) 를 통해 마이크로 리토 그래피 프로세스를 보다 세밀하게 제어할 수 있습니다. 또한 ALS I2235 는 터치스크린 작업과 직관적인 GUI (그래픽 사용자 인터페이스) 를 활용하여 사용자에게 친숙한 작업을 수행합니다. 전체적으로, GCA ALS I2235는 고급 e- 빔 및 포토 리토 그래피 제작에서 프로세스 제어에 이상적인 웨이퍼 스테퍼이며, 정확도가 높고, 빠른, 대용량 생산에 적합합니다. 고급 자동화 (versed automation), 초고해상도 (ultra-high-resolution) 광학 등 다양한 기능을 통해 반도체 제작 전문 플랫폼을 제공합니다.
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