판매용 중고 GCA 6800 #182892

GCA 6800
제조사
GCA
모델
6800
ID: 182892
G-line Stepper Manual load of reticle Paddle wafer loader 6" x 6" X/Y stage motions Stage controlled motions with data input of 0.1μ in metric mode Stage precision of +/- 0.15μ Stage orthogonality ( software correctable) of +/- 0.5 arc sec Die rotation of +/- 0.2μ over 11mm Lens reduction of +/- 0.2μ over 11 mm Trapezoidal error of +/- 0.2μ over 11mm System is fitted with a Tropel 2035 5X g-line (436) lens with a .35NA and a 20mm dia. field. Lens spec. for this lens is 1.0 microns on ultra-flat wafers, but can be pushed lower Mercury light source will have a Maximus 1000 power supply and illuminator corrected for 436 nm (g-line) Auto focus in Z axis All electronic cards will be upgraded to latest available revisions Reticle loading will be manual type and will use a 5x5 inch reticle Wafer Handling will be done using a paddle system with paddles for 100 mm dia. wafers and pieces Wafer alignment (global) will be upgraded to a CCD camera Global objective spacing will be set for 76.2 mm separation Global Alignment system Registration of +/- 0.35μm The system uses a DEC PDP-11 computer An environmental water cooled chamber to be supplied with the uni Chamber power will be set for 208 volts, 60 Hz, 3 phase 30 amps, and the Electronic rack is 110volts, 60Hz, 30 amps.
GCA 6800은 고품질 마이크로 리토 그래피 이미지를 생성 할 수있는 웨이퍼 스테퍼입니다. 이것은 반도체 집적회로 (integrated circuit) 장치를 생산하기 위한 고급 도구로서, 작은 크기의 대규모 이미징을 제공합니다. 6800 은 다른 스테퍼 스캐너 (stepper scanner) 와 동일한 원칙을 기반으로 하지만 설계에는 많은 개선 사항이 포함되어 있습니다. GCA 6800에는 성숙한 성능을 위해 빔 분할을 제어하는 3 개의 전기 거울이있는 4 개의 독립 레이저 방출기가 있습니다. 자동 초점 시스템은 정확한 이미징 및 빠른 스캔 주기를 보장하도록 설계되었습니다. 스테퍼는 100 nm 이하의 미세한 너비를 생산할 수 있으며, 최대 패턴 크기는 400x400 mm입니다. 웨이퍼 스테이지는 8 개의 분리 된 드라이브 (isolated drive) 와 동작 제어 시스템 (motion control system) 을 통해 두 방향을 따라 움직일 수 있습니다. 스테퍼에는 '어댑티브 피드백 옵틱 (adaptive feedback optics)' 을 통한 추적 및 이미징이 가능한 듀얼 풀 필드 카메라가 장착되어 있습니다. 이 스테퍼는 또한 다양한 안전 (Safety) 기능을 통해 Mis-Processing에 대한 높은 신뢰성과 최적의 보호 기능을 제공합니다. 이러한 기능에는 특히, 레이저 방사선에 대한 액세스를 방지하는 X 선 인터 록 (X-ray interlock) 과 무단 작동을 방지하는 정확한 레이저 잠금 시스템이 포함됩니다. 또한, 6800 은 운영 지침을 단순화하기 위한 전용 소프트웨어를 갖추고 있으며, 이를 통해 사용자는 매개변수 (parameter) 를 설정하고 프로세스 완료 보고서를 받을 수 있습니다. GCA 6800 (GCA 6800) 은 고해상도, 정확한 이미징 및 빠른 스캐닝을 제공하는 강력한 칩 생산 도구입니다. 이 웨이퍼 스테퍼 (wafer stepper) 는 반도체 장치 제조에 이상적이며 안전하고 일관성 있는 작동을 위해 견고하고 안정적입니다.
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