판매용 중고 GCA 6300 #9114915

GCA 6300은 칩 제조의 처리량을 높이기 위해 설계된 웨이퍼 스테퍼입니다. 4 미러 이미징 장비와 고급 광학 시스템을 사용하여 나노 스케일 정확성과 반복성을 갖춘 포토 esist 코팅 된 반도체 웨이퍼에 포토 마스크를 신속하게 투영합니다. 감소 계수 (4:1) 를 사용하면 한 패스의 단일 웨이퍼에 다중 다이를 정확하게 배치 할 수 있습니다. 6300 웨이퍼 스테퍼 (wafer stepper) 는 높은 처리량을 위해 설계되었습니다. 고급 멀티레이어 미러 (multi-layer mirror) 와 레이저 도넛 (daughnut) 기술을 통합한 고급 광학 장치 덕분에, 주어진 작업에 노출 시간이 최소화되고 처리량이 늘어납니다. 미러는 유연도에 개별적으로 장착되어 있으며, 각 노출에서 매우 높은 수준의 정확성과 반복성 (repeatability) 을 제공합니다. 이렇게 하면 각 photomask 를 wafer 에 정렬하는 데 소요되는 시간을 최소로 유지합니다. 또한, 웨이퍼 스테퍼의 높은 경량 처리량, 고해상도 및 고대비 이미지를 포토리스 스트 코팅 된 웨이퍼에 투영 할 수있다. 이로 인해 반도체 웨이퍼 (wafer) 에 더 선명하고 정의 된 이미지가 생성되어 결함이 줄어들고 수익률이 향상됩니다. GCA 6300 웨이퍼 스테퍼 (Wafer Stepper) 는 높은 처리량을 위해 설계되었으며 용량도 뛰어납니다. 직경 8 인치, 두께 0.5 밀리미터의 웨이퍼를 처리 할 수 있습니다. 이를 통해 단일 노출을 통해 많은 양의 제품을 생산할 수 있습니다. 또한, 자동 웨이퍼 처리 머신으로 6300 웨이퍼 스테퍼를 구현하여 도구 효율을 극대화합니다. 이렇게 하면 수동 웨이퍼 로딩 및 언로드에 소요되는 시간이 줄어들고, 작업 처리 속도가 빨라집니다. 이 외에도 GCA 6300 웨이퍼 스테퍼는 최소 에너지 요구량을 유지하기 위해 설계되었습니다. 저전력 DUV 레이저 (Low Power DUV Laser) 를 장착하여 노출 시간이나 이미지 품질에 영향을 주지 않고 에너지를 절약할 수 있습니다. 따라서 6300 웨이퍼 스테퍼는 반도체 제조에서 최고의 성능이 필요한 모든 조직에 이상적인 선택입니다. 고급 옵틱스 (Optics) 자산과 저에너지 (Energy) 요구 사항을 충족하여 안정적인 생산을 위한 강력하고 효율적인 도구입니다.