판매용 중고 GCA 1696 #9214877

GCA 1696은 GCA Corporation이 디자인 한 웨이퍼 스테퍼입니다. 매우 정밀하고 빠른 고도의 광석학 적 노출 장비입니다. 이 도구는 단일 노출로 웨이퍼 (wafer) 표면에 미세한 구조의 정확한 이미지를 만들 수 있습니다. "시스템 '의 견고한 특성으로 사용자는 노출 시간이 짧아 정확한 노출이 가능합니다. 웨이퍼 스테퍼에는 photolithographic 노출을 제공하는 특별한 광원이 있습니다. 이 광원은 사용자가 지정한 노출 시간 (fosure time) 에 대해 다양한 수준의 광원 (light intensity) 을 제공할 수 있습니다. 스테퍼의 광 장치 (optical unit) 는 웨이퍼 표면에 고해상도 이미지를 제공하도록 설계되었습니다. "스테퍼 '는 광학 을 정확 하게 - 심지어 여러 번 노출 되더라도 - 정확 하게 유지 하는 독특 한 초점 장치 를 가지고 있다. 이를 통해 웨이퍼가 가장 높은 정확도와 반복 가능성으로 노출됩니다. 웨이퍼는 자동 척 (chuck) 에 배치되고 모든 움직임은 정교한 온보드 컨트롤러를 통해 최적화됩니다. 컨트롤러는 다양한 동작 축 (axes of motion) 의 움직임을 정확하게 조정하여 원하는 결과를 얻을 수 있습니다. 스테퍼에는 '연결 및 노출 (connect and expose)' 이라는 특별한 기능이 있으며, 이를 통해 사용자는 최소한의 노출 오류로 노출 시간을 빠르고 쉽게 재설정할 수 있습니다. 또한, 스테퍼에는 노출 프로세스를 최적화하기 위해 설계된 특수 소프트웨어가 장착되어 있습니다. 이 소프트웨어는 다양한 유형의 재료에 대한 노출 시간 (exposure time) 과 온도 (temperature) 를 조정할 수 있습니다. 또한 왜곡을 처리하고, 여러 기판을 수용하고, 균일 한 노출 패턴을 유지 할 수 있습니다. 이 소프트웨어는 또한 스팟 크기를 정확하게 측정 할 수 있으며, 특정 패턴 (pattern) 을 생성하도록 프로그래밍 될 수 있습니다. 전체 기계는 매우 효율적이고 안정적으로 설계되었습니다. 혁신적인 디자인은 오랜 노출 시간에도 반복 가능한 결과를 제공 할 수 있습니다. 이 도구는 또한 전력 소비를 최소화하면서 에너지 효율이 매우 높도록 설계되었습니다. 1696은 광석기 노출을위한 고급적이고 강력한 도구입니다. 빠른 속도와 정확도로 웨이퍼 (wafer) 표면에 작은 구조의 정확한 이미지를 만들 수 있습니다. 이 웨이퍼 스테퍼 (wafer stepper) 는 반도체 웨이퍼의 대량 생산과 장치 제작 및 도량형을위한 상표 리소그래피 애플리케이션에 이상적입니다. 고급 광석기 제작 및 연구를위한 신뢰할 수 있고 효율적인 도구입니다.