판매용 중고 CANON FPA 5000 ES3 #9272923

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ID: 9272923
Stepper, 8" Linux console Clean chamber JBL Side main piping unit missing Touch screen display: Front and rear Keyboard: Front and rear Mouse: Front and rear Auto feeder: Type: R Type Inline Wafer type: Flat No Relay unit Reticle changer, 6" Options: PPC, BCR NIKON Cassette Wafer stage: Pin chuck Krf Line illuminator: 248 nm Switchboard Hard Drive Disk (HDD) Missing parts: MBX/MBX-CD PCB BG3-3868 UL-CD3 PCB BG3-7525 Excimer laser AS-CAMERA-R BM5-7973 AS-CAMERA-L BM5-7973 Work station 2001 vintage.
CANON FPA 5000 ES3 웨이퍼 스테퍼는 고급 반도체 제조에 사용되는 최첨단 석판화 장비입니다. 이 시스템은 처리량을 늘리고 노출 카세트를 정확하게 정렬 할 수있는 2 단계 변환 단계 (translation stage) 를 갖추고 있습니다. CANON FPA 5000ES3은 6 개의 CANON CCD 센서와 고해상도 노출 창을 활용하여 MPE (Massively Parallel Exposure) 장치의 설계 기능을 통합했습니다. 노출 창문 (Exposure Window) 설계를 통해 가전 제품을위한 고수율 통합 칩 생산을 포함하여 다양한 제조 응용 프로그램이 가능합니다. FPA-5000 ES3 은 최대 5000 배의 확장성을 제공하며 최대 0.25 m의 해상도를 제공합니다. 볼록, 오목, 멀티 f 인덱스 렌즈와 같은 대체 노출 광학을 포함하여 8 개의 렌즈 구성을 사용합니다. 포인트 라이트 패턴 (point-light patterning) 과 같은 특수 조명 소스도 디자인 변형에 사용할 수 있습니다. 이 기계는 또한 모든 샷에서 균일 한 노출 강도를 달성하기위한 고감도 셔터링 메커니즘을 특징으로합니다. 이 툴에는 세계적 수준의 이미지 처리 (image processing) 에셋이 장착되어 있어 다양한 이미지 튜닝 옵션을 제공합니다. 이 소프트웨어는 고급 기술을 사용하여 조명 효과, 응용 광전자 (applied photopattern), 기타 조정을 통해 이미지 정확도와 일관성을 향상시킵니다. 또한 사용자는 이미지 데이터베이스 (image database) 를 제공하여 패턴, 레시피 및 기타 실행 설정을 저장하고 볼 수 있습니다. CANON FPA 5000 ES 3은 깊은 UV, EUV 및 X-Ray를 포함한 다양한 고급 석판 응용 프로그램을 지원하도록 설계되었습니다. 또한 고효율 에어 베어링 스테이지, 통합 CPU 및 RAM, CANON 고급 웨이퍼 스테퍼 시스템과의 하드웨어/소프트웨어 호환성 등 다양한 기능을 갖추고 있습니다. 이 모델은 가장 까다로운 생산 요구사항을 충족시키도록 설계되었으며, 이는 모든 반도체 제조업체에 적합한 강력한 도구입니다.
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