판매용 중고 CANON FPA 5000 ES2 #9273145

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ID: 9273145
웨이퍼 크기: 8"-12"
빈티지: 1999
Scanner, 8"-12" Removed boards: MBD Unit (BG3-3868) DMP PREAMP PCB (BG3-3822) Reduction ratio: 4:1 NA: 0.45 - 0.68 Sigma: 0.30 - 0.80 Resolution: ≤0.18 µm Image field size: 26 mm x 33 mm Exposure wavelength: 248 nm Illumination source: KrF Excimer laser Reticle size: 6" Square and 0.25" thickness Auto alignment method: TTL Off-axis imaging Off-axis imaging Overlay accuracy: ≤35 nm (m+3σ) Throughput: ≥100 WPH (8") ≥65 WPH (12") 1999 vintage.
CANON FPA 5000 ES2는 65nm 크기 해상도의 고해상도 웨이퍼 스테퍼입니다. 240nm의 매니 폴드에서 방출되는 UV 광원을 사용하는 침수 형 드라이 스테핑 장비입니다. 그것 은 "트랜지스터 '," 커패시터', "다이오드 '및 그 밖 의 반도체 구성 요소 들 의 정확도 와 속도 가 높다. 이 시스템은 또한 정렬 정확도 ± 1.2nm, 웨이퍼 위치 정밀도 ± 1.2nm의 오버레이 정렬을 지원합니다. 이 장치에는 MAS (Mask Alignment Machine), 564mm 시야가 있는 4K CCD 카메라 및 Precision 스테이지가 포함되어 있습니다. MAS에는 최대 크기가 519.2mm x 529.2mm 인 고해상도 패턴화를 위한 몰입 형 광학 레이아웃이 있습니다. 대용량 생산에 최적화된 이미징 성능과 뛰어난 안정성을 제공합니다. 4K CCD 카메라는 확장된 동적 범위를 제공하여 뛰어난 이미징 정확도와 높은 마스크 명암을 제공합니다. 4K CCD 카메라는 소음 특성이 매우 낮아, 저장해야 할 데이터의 양을 줄여주는 동시에, 뛰어난 해상도를 제공합니다. Precision Stage는 미세조정 (Fine Alignment) 과 미세조작 (Microfabrication Operation) 을 위한 빠르고 정확하며 신뢰성이 높은 엔지니어링 플랫폼을 제공합니다. 초정밀 패턴화를 위해 최대 해상도 5nm를 제공합니다. FPA 5000 ES2 는 SEC (Smart Exposure Control) 와 함께 제공되어 반복성을 보장하고 높은 처리량을 제공합니다. 또한 조정 가능한 레이아웃 최적화 팩터 (Adjustable layout optimization factor) 를 사용하여 마스크 패턴의 결함 또는 오류를 감지할 수 있습니다. 이 도구는 유지 관리가 용이하며, 최적의 노출 설정 처리를 자동화하는 자동 감지 (auto-sensing) 에셋이 내장되어 있습니다. (PHP 3 = 3.0.6, PHP 4) 이 기계는 또한 테스트 및 생산 인쇄물의 자동 트림 및 수리를 제공합니다. 전체 색상 보기 모드 (full color view mode) 와 실시간 오버레이 모드 (overlay mode) 를 사용하여 레티클 패턴과 소형 장치 컴포넌트를 정확하게 평가할 수 있습니다. 또한 다양한 하드웨어/소프트웨어 업데이트를 통해 안전성 향상, 사용 편이성 극대화, 최첨단 운영 과제 처리 (영문) 를 실현할 수 있습니다.
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