판매용 중고 CANON FPA 3000 MR #293817802

CANON FPA 3000 MR은 FAB 시리즈의 일부로 고급 반도체 응용 프로그램을 위해 CANON에서 개발 한 정교한 웨이퍼 스테퍼입니다. 웨이퍼 스테퍼 (Wafer Stepper) 는 점점 더 작은 기능, 더 빠른 처리량, 더 큰 정확성 등의 요구 사항을 포함하여 고급 사진 촬영 (Advanced Photolithography) 의 과제를 충족하도록 특별히 설계되었습니다. FPA 3000 MR은 0.40 마이크로미터의 정렬 정확도와 최대 0.5 마이크로미터 (micrometer) 의 초점 깊이를 가지며, 동시에 여러 웨이퍼에 해리된 레이어를 노출 할 수 있습니다. 또한 CANON FPA 3000 MR은 CANON 독점, 다중 초점 구동 메커니즘을 통합하므로 극심한 온도 변화 상태에서도 빠르고 미세한 노출을 제공합니다. 이는 월등한 대조를 보장하며, 다양한 노출 형태와 크기를 허용합니다. 웨이퍼 스테퍼 (wafer stepper) 는 높은 처리량을 위한 향상된 포커스 제어 장비를 특징으로하며, 이는 공간 및 시간 소음 분석을 사용하여 노출 시퀀스 (exposure sequence) 에 걸쳐 포커스를 최적화합니다. FPA 3000 MR은 또한 더 높은 해상도와 더 작은 정규화 오버랩을 가능하게하는 High NA (Numerical Aperture) 시스템과 고밀도 패턴을 노출시키는 백스캐터 프리 (backscatter-free) 및 멀티 스택 장치 등 두 가지 유형의 고급 광학 시스템을 제공합니다. CANON FPA 3000 MR에는 최대 75nm까지 갈 수있는 다양한 해상도가 있으며 수용 가능한 웨이퍼 크기는 175mm (8 인치) 입니다. 이 스테퍼는 또한 CANON의 유명한 정밀 제어 기술 (Precision Control Technology) 과 독보적 인 프로세스 감지 정확도의 이점을 제공합니다. 환경 보호 (Environmental Protection) 기능을 제공하며 다양한 재료, 형태, 크기, 다양한 화학 공정 (Chemical Process) 과 함께 사용할 수 있으므로 광범위한 산업에 이상적입니다. 또한, FPA 3000 MR에는 추적 가능성을위한 통합 머신이 있으며, QA 검토 및 프로세스 분석에 귀중한 데이터를 제공합니다. 빠르고 정확한 정렬 도구와 결합된 CANON 고유의 고급 웨이퍼 처리 (advanced wafer handling) 기술을 통해 높은 처리량, 강력한 프로세스 제어 및 전체 추적 능력을 보장합니다. 전반적으로 CANON FPA 3000 MR은 CANON의 고급, 다용도 및 정확한 웨이퍼 스테퍼로, 높은 정확도, 빠른 처리량, 극한의 온도 변화 및 높은 명암비 이미징이 필요한 산업에 적합합니다.