판매용 중고 CANON FPA 3000 i5 #9086289
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ID: 9086289
웨이퍼 크기: 8"
빈티지: 1997
i-Line stepper, 8"
Wafer type: Silicon, notch
Wafer chuck: Notch ring
Wafer feeder:
Type: L
Inline station: Yes
Edge exposure unit: No
Reticle changer, 6"
Type: Normal
Additional library: Yes
PPC: Yes
RPC: No
Cassette barcode: No
Reticle barcode: No
AGV: No
EWS:
Type: 715
CPU: 64
2nd Lan Board: Yes
Console:
MO Driver: Yes
Remote: Yes
Printer: No
Job server: Yes
Online: Yes
Power receiving box: Type 52B
(3) Signal towers
Damper: Active
Chuck maintenance tool:
Cleaning plate: No
Chuck fork: No
UPS: FUJI
Lamp / Laser:
Mercury lamp: No
Halogen lamp: No
He-Ne laser: No
Laser head (inter ferometer): Yes
Other:
Lock tool: No
Bar mirror case: Yes
Chuck maintenance tool case: yes
C-Oil: No
Manual: No
Currently warehoused
1997 vintage.
CANON FPA 3000 i5 웨이퍼 스테퍼 (Wafer Stepper) 는 처리량을 높이고 차세대 디바이스 제조 및 웨이퍼 생산의 정확한 요구 사항을 충족하도록 설계된 정밀 정렬 장비입니다. 이 시스템은 5 축, 4 미러 스캔 광학 장치를 사용하여 리소그래피 프로세스 동안 높은 정확성과 정확성을 달성합니다. CANON FPA 3000I5 Wafer Stepper는 정밀도가 높은 최대 4 인치 또는 6 인치 웨이퍼를 처리 할 수 있습니다. 또한, 이 기계는 고급 리소그래피 소프트웨어를 사용하여 웨이퍼 정렬 및 웨이퍼 노출 프로세스를 자동화합니다. FPA-3000 I5 웨이퍼 스테퍼 (I5 Wafer Stepper) 는 웨이퍼 처리 시 정확성과 다용성을 제공하도록 설계된 다양한 광학 및 기계적 기능을 갖추고 있습니다. 메카트로닉 액츄에이터 (Mechatronic actuator) 는 정확한 기계적 동작을 제공하여 도구를 통해 고품질 이미지와 최소 정렬 오류를 모두 생성할 수 있습니다. 또한, 2 세트의 레이저 패턴 인식 카메라는 리소그래피 애플리케이션을위한 고해상도 이미지 획득 및 데이터 입력을 제공합니다. 에셋은 또한 고급 정렬 알고리즘 (advanced alignment algorithms) 을 제공하여 리소그래피 프로세스 동안 웨이퍼를 정확하게 정렬하고 노출 매개변수를 올바르게 조정합니다. 또한 CANON FPA-3000 I5 웨이퍼 스테퍼 (I5 Wafer Stepper) 에는 고해상도 이미징 렌즈 및 고해상도 줌 렌즈를 포함한 고급 옵티컬 모델이 장착되어 있어 노출 단계 간의 정확한 초점 거리 조정 및 초점 일치가 가능합니다. 이는 지속적으로 높은 노출 정확도를 보장하며, 노출 과정에서 높은 수준의 반복성을 보장합니다. 이 스테퍼는 또한 특허를 받은 노출 장비 (Exposure Equipment) 를 활용하여 단일 통합 노출 절차에 노출 및 스캐닝을 통합합니다. 종합적인 진단 시스템은 FPA 3000 i5 웨이퍼 스테퍼에 필수적입니다. 이 자동 장치는 정적 이미지 패턴 평가, 동적 이미지 패턴 평가, 레이저 이미지 패턴 정렬, 성능 평가, 노출 매개변수 자동 조정 등 다양한 고급 기능을 제공합니다. 또한, 이전 프로세스의 데이터 저장/아카이빙을 통해 필요할 때 신속하고 효율적인 프로세스 피드백을 제공할 수 있습니다. 마지막으로 FPA 3000I5 웨이퍼 스테퍼 (Wafer Stepper) 는 운영자 워크로드를 줄이고 효율성을 향상시키도록 설계된 다양한 사용자 친화적 기능을 갖추고 있습니다. 완벽한 통합 (Fully Integrated) 컨트롤은 노출 (Exposure) 및 스캐닝 (Scanning) 프로세스를 적절하게 제어하고 최적화하는 반면, 직관적인 사용자 인터페이스는 다양한 노출 및 스캐닝 매개변수에 쉽게 액세스할 수 있습니다. 또한, 이 기계는 CANON 레이저 이미지 처리 소프트웨어와 호환되므로 고급 노출 및 스캔 규칙 구성, 데이터 분석 및 보고서 생성 (Report Generation) 이 가능합니다. 전체적으로 CANON FPA 3000 i5 Wafer Stepper는 최신 장치 제조 및 웨이퍼 (wafer) 생산 프로세스의 정확한 요구 사항을 충족하도록 설계된 안정적이고 강력한 도구입니다.
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