판매용 중고 CANON FPA 3000 i4+ #9256525

CANON FPA 3000 i4 + 는 고급 반도체 제작 산업의 엄격한 요구를 충족시키기 위해 설계된 최첨단 대용량 웨이퍼 스테퍼입니다. 이 제품은 와퍼에 대한 포토 마스크 패턴화를 위한 매우 정밀한 광학 장비 (optical equipment) 와 다중 영역 자동 정렬 시스템 (multi-zone automatic alignment system) 을 통해 생산 부지에 걸쳐 정확성과 반복 가능성을 보장합니다. 이 장치는 최대 175W의 조명력을 제공하며, 가장 복잡한 패턴의 정교한 고해상도 이미징에 적합합니다. 두 단계의 광 정렬 (optical alignment) 이 있으며, 각각 3 개의 축으로 구성되어 포토 마스크 및 웨이퍼의 정확한 치수 등록이 가능합니다. 2 개의 고해상도 카메라가 미크론 레벨 스캐닝 해상도에 포함되어 있습니다. 웨이퍼 스테핑 머신 (wafer-stepping machine) 은 매우 정확하고 반복 가능한 도량형 시스템을 갖추고 있으며, 여기에는 노출 중 웨이퍼 및 마스크의 자동 스캐닝 및 비교가 포함됩니다. FPA 3000 i4 + 는 최대 80nm 해상도의 100nm 이하의 해상도를 제공합니다. 고급 다중 영역 노출 (multi-zone exposure) 알고리즘을 사용하여 높은 수율을 보장하며, 이는 내장 마스킹 오버레이를 통해 더욱 향상됩니다. 포함된 optics 도구는 반음계 수차 및 수차를 최소화하여 높은 정확성과 반복성을 제공합니다. 높은 처리량 및 우수한 웨이퍼 처리를 위해 자동화 된 웨이퍼 공급 자산을 통합합니다. 스테퍼는 또한 새로운 최대 수직 이동 모델을 특징으로하며, 최대 20mm까지 이동할 수 있으며, 복잡한 웨이퍼 형상에서 3D 패턴화가 가능합니다. 이 고급 스테퍼는 또한 축소 가능한 스케일링을위한 고급 휴리스틱 장비를 가지고 있으며, 이를 통해 백만 분의 1 불량 수준을 달성 할 수 있습니다. 직관적인 사용자 인터페이스 (custom-programmed control) 와 문제 해결 및 모니터링을 위한 원격 액세스 (remote access) 옵션을 제공합니다. CANON FPA 3000 i4 + 는 확장성을 위해 설계되었으며, 변화하는 구성 기술 및 요구를 충족할 수 있는 업그레이드 기능을 제공합니다. 광범위한 기판과 호환되며 직경 200mm ~ 450mm 범위의 웨이퍼를 처리 할 수 있습니다. 매우 효율적이고 신뢰할 수 있는 Wafer 처리 요구 사항입니다.