판매용 중고 CANON FPA 2500 i2 #9394905

CANON FPA 2500 i2 웨이퍼 스테퍼는 고도의 반도체 석판화기입니다. 반도체 업계의 최신 응용프로그램에 적합한 다양한 기능 (기능· 기능) 을 자랑한다. 코어에서 CANON FPA-2500I2는 최대 250 mW의 193nm 빛을 출력할 수있는 광자 소스로 구동됩니다. 이는 최대 4.3m 노출 수준의 최대 6.5mm x 6.5mm의 투영 영역을 생성하므로 접촉 구멍 (Contact Holes) 및 선/공간 형상 (Line/Space Geometries) 과 같은 피쳐의 정확한 이미지를 만들 수 있습니다. 이 장치는 CANON 독점 EDS - 전자 변위 안정성 - 기능을 통합합니다. 이를 통해 노출 중 조명과 초점 조건을 정확하게 제어할 수 있으며, 리소그래피 (lithography) 결과의 정확성과 품질이 크게 향상됩니다. FPA-2500 I2는 미세 피치 메모리 칩 생산과 같은 까다로운 어플리케이션을 처리하도록 특별히 설계되었습니다. 이 스테퍼는 최대 710 x 710 mm의 생산 영역과 함께 28 nm 해상도까지 다양한 기능을 통해 이미지를 재현할 수 있습니다. 뿐만 아니라, FPA 2500 i2는 양방향 초점 제어 및 고급 라인 너비 제어 (Advanced Line Width Control) 를 수행할 수 있으므로 정밀도가 높고 성능이 뛰어난 반도체 장치를 생산하는 데 적합합니다. FPA 2500 I 2에는 사용자 편의를 위한 여러 가지 고급 기능도 포함되어 있습니다. 모듈식 설계는 손쉽게 설치 및 수리 작업을 수행할 수 있는 반면, 유지 관리 마운터는 내장되어 있어 정확도가 높습니다. 또한, 이 장치는 자동 정렬, 라인 너비 변형 감소, 고수준 가속을 위한 내장 기능을 갖추고 있습니다. 간단히 말해서 CANON FPA 2500 I 2 Wafer Stepper는 강력한 리소그래피 장치로, 뛰어난 사용자 제어, 강력한 물리 기반 기능 및 정확한 결과를 제공합니다. 매우 까다로운 반도체 애플리케이션에 적합합니다. 따라서 사용자는 최소한의 노력으로 고품질의 미세 피치 (fine-pitch) 메모리 칩을 제작할 수 있습니다.