판매용 중고 CANON FPA 2000 i1 #9134789
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판매
ID: 9134789
웨이퍼 크기: 6"
Stepper, 6"
Wafer type: semi flat
Wafer chuck type: LC ring chuck
Track interface: DNS
Auto-feeder (in-line direction): Left, Type 2
Altitude: X m
Signal tower: yes
CE mark (Europe): yes
Edge beam removal: no
Reticle changer:
Reticle size: 5", type 2 with 14 slots
Reticle bar code reader: yes
Library slot number: 14
Workstation:
Workstation model: HP1000
Software:
Main software version: V5.25B
Gem software version: SECS
Facility requirements:
Main electrical supply: 3 Phase, 415 VAC
Exhaust
1x Heat exhaust for chamber
2x Control rack
(Setting 0.5 inc to 2 inc H2O)
CDA Supply: 3X 100psi
Cooling water supply: cooling Water in (pressure=1to5 kg/cm2)
Vacuum: 3X vacuum setting ≤ 550 mm Hg
Drain: 1X drain for chamber aircodition system
Chamber:
Chamber type: TBW-CD-50W
Wafer feeding unit:
Type of wafer feeding unit: Type II
Wafer size: 6"
Carriers: double carriers
Flat/notch finder: flat
Method: non-edge contact, back side holding
XY stage: 6" sliding stage
Tilt stage: yes
Reticle changer system: Type II with 14 slots
Size: 5" Reticle
Reticle alignment system: TV image processing with FRA2 mark
Alignment source: g-line
HeCd laser: No
Auto wafer alignment system:
Auto alignment source: HeNe Laser (1 for X, 1 for Y)
Method: through the len off axis auto alignment
Mode: die and die and AGA
Projection lens:
Magnification: X 1/5
Numerical aperture: 0.55
Illumintor:
Light source: 1 KW Hg Lamp
Exposure time control: light integrator
Masking function: variable with 4 independent masking blades
Auto focus:
Method: optical auto focus
Other: auto compensation for barometric pressure change
Mechanical prealignment: non-edge contact
TV prealigment: TV image processing
Monitor display: LCD.
캐논 FPA 2000 i1 (CANON FPA 2000 i1) 은 웨이퍼 스테퍼 (wafer stepper) 로 반도체 웨이퍼 가장자리에 특정 패턴을 생산하는 데 사용되는 포토 리토 그래피 기기의 한 유형입니다. "웨이퍼 '무늬 는 넓은 크기 로 매우 정밀 하고 정확성 이 높은" 웨이퍼' 무늬 를 만들어 낼 수 있다. CANON FPA2000-I1의 필드 크기는 3 ~ 5 초각이며, 효율적인 고속 작동에서 자동 패턴 생성기 정렬 및 웨이퍼 정렬을 수행할 수 있습니다. FPA-2000I1에 사용 된 포토 리토 그래피 (photolithography) 는 플렉스 트랙 기술 (flex track technology) 을 기반으로하며, 다양한 유연성을 가지며 각 응용 프로그램에 대해 미세 조정 할 수 있습니다. 이를 통해 가장 까다로운 반도체 패턴을 위한 빠르고, 정확한 정렬, 스티칭뿐만 아니라, 고정밀 노출 제어 (Exposure Control) 를 제공할 수 있습니다. CANON FPA 2000 I 1에는 멀티 노출 기능도 포함되어 있으므로 패턴 균일성이 향상됩니다. CANON FPA-2000I1은 조명, 광학 도량형, 에지 감지, 완전 자동화, 폐쇄 루프, 노출 프로세스 등 자동 노출 장비를 갖추고 있습니다. 수작업 (manual intervention) 없이 지속적으로 작동하도록 설계되었으며 단일 노출 (single exposure) 을 통해 중요한 패턴 제어를 달성할 수 있습니다. 이 시스템에는 공기의 커튼 (curtain) 과 정교한 공기 제어 장치 (air control) 가 장착되어 있어 오염을 줄여 깨끗하고 고해상도 패턴을 달성하는 데 필수적입니다. FPA 2000 i1은 다양한 패턴화 기능도 제공합니다. 이 장치는 이진 해상도 패턴 (binary resolution pattern) 과 높은 정밀도를 갖는 밀도 라인 (dense line) 을 노출 할 수 있으며 원형 또는 뱀 패턴을 형성하는 데에도 사용될 수 있습니다. 이 기기는 또한 시간에 따라 단일 웨이퍼에 여러 패턴을 통합 할 수 있습니다. FPA-2000 I 1에는 여러 개의 내장 안전 기능이 포함되어 있습니다. 동력 단계는 안정된 환경을 유지하기 위해 온도가 조절되고 온도가 조절되며, 로봇 제어 단계는 변위 (displacement) 와 방향 (orientation) 을 제어하여 정확한 노출을 보장합니다. 비상 중지 버튼을 사용하면 무단 액세스 시도를 차단할 수 있습니다. 요약하면, CANON FPA-2000 I1은 뛰어난 성능과 안정성을 제공하는 고급 기능을 갖춘 고정밀 웨이퍼 스테퍼입니다. 플렉스 트랙 (Flex Track) 기술과 다중 노출 머신 (Multiple-Exposure Machine) 은 모든 웨이퍼 패턴화 응용 프로그램을위한 이상적인 도구이며, 내장 안전 측정은 안전한 작동을 보장합니다.
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