판매용 중고 CANON FPA 1550 MARK IV-W #9196317

CANON FPA 1550 MARK IV-W는 리토 그래피 패턴을 웨이퍼로 정확하게 전달하기 위해 반도체 생산 프로세스에 사용되는 웨이퍼 스테퍼입니다. 이 기계는 직경 24cm까지 기판을 처리 할 수 있으며, 정렬 정확도 2.5 (m) 를 달성 할 수 있습니다. XY 단계, 터렛, Z 선형 단계를 포함하는 전동식 정렬 장비를 사용하여 정확한 동작 제어 (motion control) 와 고속 처리 속도를 보장합니다. 스테퍼는 수은 아크 램프 (mercury-arc lamp) 를 사용하여 193 nm의 파장에서 판 마스터를 웨이퍼에 투영합니다. 이 기계에는 LIPA (Laser Interference Pattern Aligner) 시스템이 장착되어 있어 플레이트 마스터와 웨이퍼 사이의 공간 관계를 측정하고 신속하게 노출 시간을 조정할 수 있습니다. 또한, 스테퍼는 다이 투 다이 노출을 사용하여 석판 패턴의 필요한 정확성을 보장합니다. CANON FPA 1550 MARK IVW는 온보드 프로그래밍 가능 장치를 사용하여 반복 속도 및 노출 조건을 제어합니다. 또한 외부 컴퓨터를 사용하여 복잡한 패턴 생성 (pattern generation) 작업을 단순화할 수도 있습니다. 또한, 기계에는 3D 레이저 간섭계 센서가 장착되어 있어 웨이퍼 이동의 실시간 피드백 및 교정이 가능합니다. 안전성을 위해 스테퍼에는 긴급 정지 (Emergency Stop) 버튼이 있으며, 이 버튼을 사용하여 장치의 전원을 즉시 차단하고 안전한 종료 (Safe Shutdown) 시퀀스를 시작할 수 있습니다. 또한, 시스템은 광학 그레이팅 센서 머신을 사용하여 웨이퍼 로딩 (wafer loading) 오류를 감지 할 수 있습니다. 전반적으로 FPA-1550 MARK IV-W는 반도체 생산에서 복잡한 리소그래피 처리에 사용되는 고급적이고 신뢰할 수있는 스테퍼입니다. 전동식 정렬 도구 (Motorized Alignment Tool) 와 온보드 프로그래밍 가능 장치 (On-board Programmable Device) 는 빠른 반응과 조정을 가능하게 하여 높은 수준의 정확성과 효율성을 보장합니다. 또한, 인력과 장비 모두에 대한 운영 제어 및 보호를 개선하기위한 수많은 안전 메커니즘 (Safety Mechanism) 이 있습니다.