판매용 중고 ASML XT 850F #9244892

ASML XT 850F (ASML XT 850F) 는 제조 실험실의 웨이퍼에 집적 회로를 만들고 검사하도록 설계된 웨이퍼 스테퍼입니다. 스테퍼는 광학 몰입 리소그래피 (Optical Immersion Lithography) 를 사용하여 일련의 매우 정확한 동작 및 가벼운 노출로 웨이퍼 표면에 이미지를 생성합니다. x- 축에서 최대 0.13 미크론, y- 축에서 0.20 미크론까지 엄청나게 높은 해상도의 칩을 생산할 수 있습니다. XT 850F는 독점, 고출력 레이저 장비를 사용하여 일련의 기판에 리소그래피 패턴을 노출시킵니다. "레이저 '는 고조명 균일성을 만들고 스캐닝 품질을 향상시키기 위해 멀티필드 (multi-field) 광학 시스템을 탑재했다. 웨이퍼는 척 (chuck) 에 장착되고 고성능 선형 모터 구동 스테이지로 움직입니다. 스캐닝 균일성을 향상시키기 위해 ASML XT 850F 스테퍼에는 섭씨 1/10 이내의 웨이퍼를 유지하기 위해 온도 조절 장치가 포함되어 있습니다. 또한 매우 민감한 고속 간섭계 인 Closed Loop Metrology Machine을 사용하여 높이의 변화를 정확하고 빠르게 감지합니다. 스테퍼의 이미징 도구에는 탁월한 초점 성능을 위한 자동 초점 (auto-focus) 및 자동 노출 (auto-exposure) 에셋이 모두 포함되어 있습니다. 또한 고정밀 스테퍼 스테이지, 모터 구동, 스테이지 (stage) 를 활용하여 보다 정확한 위치와 향상된 이미지 품질을 제공합니다. 작동 측면에서 XT 850F는 사용 편의성과 신뢰성을 위해 제작되었습니다. 극도의 정밀성 (Precision) 과 반복성 (Repeatability) 뿐만 아니라, 잘못된 정렬을 방지하고 감지하기 위해 여러 가지 안전 기능과 특수 경보 기능으로 설계되었습니다. 또한 유지 보수가없는 장기 근무가 특징입니다. 전반적으로 ASML XT 850F는 매우 다재다능하고 신뢰할 수있는 웨이퍼 스테퍼로, 웨이퍼에 고해상도, 고정밀 집적회로를 생산하도록 설계되었습니다. 온도 조절 모델, 자동 초점 및 자동 노출 시스템, 고출력 레이저 장비, 탁월한 이미징 성능, 정확성 및 신뢰성을 보장하는 Closed Loop Metrology System 등 다양한 기능을 자랑합니다.