판매용 중고 ASML XT 760F #9305673
URL이 복사되었습니다!
ID: 9305673
웨이퍼 크기: 12"
빈티지: 2006
DUV Scanner, 12"
External interface module
Bottom module
Reticle stage
Covering panels frame parts
Covering panels frame MCAB
Covering panels
RSRC Cabinet
MCWC Cabinet
MDC Cabinet
LCWC Cabinet
Exhaust cabinet
Machine parts clean folder
Side channel blower
(6) Machine parts
Double stage
Hard Disk Drive (HDD), 4.1.0
Locking kit
TAMIS (EMTA):
Z7 Offset: ±4.0 nm (-5.96)
Z8 Offset: ±4.0 nm (-1.11)
Z7 Tilt in X: ±2.0 nm/cm (-0.04)
Z9 Offset: ±4.0 nm (0.48)
SAMOS (EMCA):
SAMOS: ≤3% (1.74)
SLIT Uniformity (LUSU):
- / NA / S.In / S.Out / Control spec / Down spec / Result
Annular (M-Action) / 0.7 / 0.55 / 0.85 / 1.50% / 3.00% / 0.31
Conventional / 0.65 / 0 / 0.75 / 1.50% / 3.00% / 0.26
Conventional / 0.7 / 0 / 0.6 / 1.50% / 3.00% / 0.28
Model result parameter:
Best focus: ±0.015 (0.002)
Image height C1 (um): 0 ±0.015 (0.002)
Image height C2 (um): 0 ±0.015
Image height different (um): 0 ±0.015
Image tilt ry C1 (urad): 0 ±0.5 (-0.279)
Image tilt ry C2 (urad): 0 ±0.5
Image tiltry different (urad): 0 ±0.5
Intrafield:
Focus range chuck 1 Before: <120 nm (91.6)
Focus range chuck 2 Before: <120 nm
Focus range chuck 1 After: <120 nm (89)
Focus range chuck 2 After: <120 nm
Focus range C1 different (nm): 0 +15 (2.6)
Focus range C2 different (nm): 0 +15
Astigmatism range C1 different (nm): 0 ±5 (0.6)
Astigmatism range C2 different (nm): 0 ±5
Result after correction:
IPD Mean (nm): <120 (89)
IPD STDEV (nm): <10
Astigmatism mean (nm): <70 (36)
Astigmatism STDEV (nm): <10
Dose accuracy and repeatability performance (ODAR):
Dose accuracy: <2.0 (max) (1.416)
Dose repeatability: <0.5 (0.057)
CYMER Laser not included
2006 vintage.
ASML XT 760F (ASML XT 760F) 는 고급 반도체 장치 생산을위한 시장을 선도하는 솔루션으로 사용되도록 설계된 차세대 고급 웨이퍼 스테퍼입니다. ASML XT: 760F는 DUV (Deep Ultraviolet Lithography) 및 EUV (Excimer Laser Lithography) 와 같은 기술을 지원하는 웨이퍼 스테퍼입니다. 반도체 생산 공정을 더욱 최적화할 수 있는 탁월한 정밀도와 높은 처리율을 제공합니다. XT 760 F는 기존의 웨이퍼 스테퍼와는 다른 다양한 고급 기능을 제공합니다. 최고 수준의 정확성과 안정성을 제공하는 고속, 듀얼 축 서브 미크론 스테이지 장비를 갖추고 있습니다. 이중 축 시스템은 위치 인코더 및 위치 감지 서보 모터와 적응형 피드 포워드/피드백 제어 (adaptive feed forward/feedback control) 알고리즘을 사용하여 스테퍼에서 웨이퍼를 매우 정확하게 배치합니다. 또한 ASML XT 760 F (ASML XT 760 F) 는 매우 안정적인 수차 수정 장치를 제공하여 가장 가파른 수준의 니콘 투영 광학 (Nikon projection optics) 에서도 웨이퍼 전체 영역에 대해 이미지 품질을 유지합니다. XT 760F는 또한 유연하고 쉽게 조절 할 수있는 모듈식 설계를 갖추고 있습니다. 모듈식 (Modular) 설계는 웨이퍼 동작 (Wafer Action) 이나 정렬 (Alignment) 을 허용할 수없는 요인을 제거함으로써 웨이퍼 스테퍼 (Wafer Stepper) 의 광학을 최대한 보호합니다. XT: 760F의 고급 제어 도구 (Advanced Control Tool) 를 사용하여 에칭 및 연마 등의 추가 프로세스를 통합 할 수도 있습니다. ASML XT 760F는 웨이퍼 표면 전체에 균일 한 노출을 포함하여 ISO/EEE 9000 표준에 따라 완벽한 웨이퍼 처리를 제공합니다. 프로세스 매개변수는 여러 번 노출 된 후에도 균일하고 반복 가능합니다. 또한, ASML XT: 760F는 잔류 웨이퍼 성능이 낮은 매우 빠른 처리 속도에서 실행할 수 있습니다. XT 760 F (XT 760 F) 는 웨이퍼 처리의 뛰어난 반복성을 달성함으로써 고급 반도체 장치 생산 프로세스가 가능한 최고 수준의 정확도로 수행되도록 보장합니다. 요약하면, ASML XT 760 F는 탁월한 정밀도, 높은 처리율, 뛰어난 이미지 품질, 높은 반복성을 제공하는 고급 웨이퍼 스테퍼 (wafer stepper) 로, 고급 반도체 장치 생산을위한 시장을 선도하는 솔루션입니다.
아직 리뷰가 없습니다