판매용 중고 ASML XT 760F #9243126
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판매
ID: 9243126
웨이퍼 크기: 12"
빈티지: 2006
DUV Scanner, 12"
Does not include CYMER laser
2006 vintage.
ASML XT 760F는 반도체 생산에서 리소그래피의 목적으로 광학, 기계 및 계산 기능을 조정하는 웨이퍼 스테퍼입니다. 이전 모델보다 최대 4 배 빠른 멀티 프로젝트 웨이퍼 처리량을 늘릴 수 있으며 2K 진공 척 (vacuum chuck) 과 완전 AUTO DCG/DCP가 장착되어 있습니다. ASML XT: 760F는 i-line 또는 ArF 리소그래피를 위해 5X/6X 고수치 조리개 시스템을 선택할 수 있습니다. 초점 레티클 및 렌즈 튜너가 개선 된 더블 필드 스캔 신경 네트워크 (double field scan neural network) 가 장착되어 있습니다. 이중 필드 스캔 신경 네트워크에는 컨투어 곡면 (contored, curved surfaces) 을 감지하는 기능이 있습니다. 필드 매칭 FXLTM은 웨이퍼 전체 표면에서 불균일 한 피치 패턴을 보장합니다. XT 760 F 는 웨이퍼에 광학 필드를 매우 낮게 왜곡하고 매우 정확하게 배치할 수 있도록 11 도 스캔으로 설계되었습니다. 빠른 레티클 교환을위한 FTS (Fast Tuning System) 와 고급 기능의 경우 최대 광학 필드 크기 30 유로를 자랑합니다. 또한, XT 760F는 결함 용량 예측을 통한 저하성, 균일성 향상을 위한 4D 스티칭, 고급 웨이퍼 레벨 데이터 로깅 등 다양한 기능을 갖추고 있습니다. ASML XT 760 F는 구형 웨이퍼 스테퍼에 비해 향상된 이미지 및 오버레이 품질을 제공합니다. 이는 향상된 패턴 수정 (pattern correction) 및 노출 필드 전반에 걸쳐 반복성이 향상된 자동 노출 알고리즘 덕분입니다. 웨이퍼 스테퍼는 Windows 기반 GUI (그래픽 사용자 인터페이스) 및 메뉴 기반 소프트웨어 작업을 사용하여 관리됩니다. XT: 760F는 Contact Imaging, Chrome 또는 Scan Cleaner/Booster 구성을 포함한 추가 옵션을 추가하여 모든 응용 프로그램에 맞게 사용자 정의할 수 있습니다. 웨이퍼 스테퍼에는 비정상적인 포토 마스크 (photomask) 또는 인쇄 조건을 신속하게 감지하는 안전 모듈이 내장되어 있습니다. ASML XT 760F는 저렴한 가격으로 품질 웨이퍼 스테퍼의 ASML 전통을 계속합니다. 최첨단 구성요소와 품질 및 성능이 향상된 디자인이 특징입니다. ASML XT: 760F를 사용하면 최대 웨이퍼 장착 결함 방지 및 높은 수율을 기대할 수 있습니다.
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