판매용 중고 ASML XT 760F #9237243

ASML XT 760F
제조사
ASML
모델
XT 760F
ID: 9237243
웨이퍼 크기: 12"
빈티지: 2006
DUV Scanner, 12" Locking kit TAMIS (EMTA): Z7 Offset: ±4.0 nm (-5.96) Z8 Offset: ±4.0 nm (-1.11) Z7 Tilt in X: ±2.0 nm/cm (-0.04) Z9 Offset: ±4.0 nm (0.48) SAMOS (EMCA): SAMOS: ≤3% (1.74) SLIT Uniformity (LUSU): - / NA / S.In / S.Out / Control spec / Down spec / Result Annular (M-Action) / 0.7 / 0.55 / 0.85 / 1.50% / 3.00% / 0.31 Conventional / 0.65 / 0 / 0.75 / 1.50% / 3.00% / 0.26 Conventional / 0.7 / 0 / 0.6 / 1.50% / 3.00% / 0.28 Model result parameter: Best focus: ±0.015 (0.002) Image height C1 (um): 0 ±0.015 (0.002) Image height C2 (um): 0 ±0.015 Image height different (um): 0 ±0.015 Image tilt ry C1 (urad): 0 ±0.5 (-0.279) Image tilt ry C2 (urad): 0 ±0.5 Image tiltry different (urad): 0 ±0.5 Intrafield: Focus range chuck 1 Before: <120 nm (91.6) Focus range chuck 2 Before: <120 nm Focus range chuck 1 After: <120 nm (89) Focus range chuck 2 After: <120 nm Focus range C1 different (nm): 0 +15 (2.6) Focus range C2 different (nm): 0 +15 Astigmatism range C1 different (nm): 0 ±5 (0.6) Astigmatism range C2 different (nm): 0 ±5 Result after correction: IPD Mean (nm): <120 (89) IPD STDEV (nm): <10 Astigmatism mean (nm): <70 (36) Astigmatism STDEV (nm): <10 Dose accuracy and repeatability performance (ODAR): Dose accuracy: <2.0 (max) (1.416) Dose repeatability: <0.5 (0.057) CARL ZEISS SMT Lens Charcoal filter External interface module Bottom module Reticle stage Covering panels frame parts Covering panels frame MCAB Covering panels RSRC Cabinet MCWC Cabinet MDC Cabinet LCWC Cabinet Exhaust cabinet Machine parts clean folder Side channel blower (6) Machine parts Double stage CYMER Laser not included.
ASML XT 760F는 집적 회로 생산에 사용되는 리소그래피 응용 프로그램을 위해 설계된 웨이퍼 스테퍼 도구입니다. 고해상도 (High Resolution) 와 균일성 (Unifority) 을 제공하여 기존의 다른 광 웨이퍼 스테퍼와 비교할 때 정확하고 반복 가능한 이미징을 제공합니다. ASML XT: 760F (ASML XT: 760F) 에는 렌즈 및 거울을 배치하기 위해 매우 정확하고 부드러운 모션을 생성 할 수있는 독점 운동학적 모션 장비가 장착되어 있습니다. 이 모션 시스템 (Motion System) 은 측면 단계의 드리프트 값을 최소화하여 최대 정확도를 위해 설계되었으며, 안정적이고 반복 가능한 이미징 프로세스를 달성하기 위해 높은 주파수로 작동 할 수 있습니다. 또한 2 축 Pololu 로봇 액츄에이터가 장착되어 있으며, 특히 석판 응용 분야의 정밀 동작을 위해 설계되었습니다. XT 760F는 이미징을 위해 고성능 디지털 갈바노메트릭 스캐너를 사용합니다. 이 스캐너는 X, Y 및 Z 축에서 스캐너 거울의 높은 정밀도 이동을 보장하면서 안정적인 이미징 프로세스를 제공하도록 설계되었습니다. 이 스캐너에는 고해상도 이미징을 가능하게 하는 빔 셰이핑 (beam-shaping) 모듈도 장착되어 있습니다. 포함된 소프트웨어 모듈과 하드웨어 (하드웨어) 기능을 통해 스캐너를 쉽고 정확하게 제어하고 정렬할 수 있습니다. XT: 760F에는 IC의 표면 (surface) 기능을 측정하기 위해 리소그래피 프로세스가 완료된 후 웨이퍼 (wafer) 이미지를 캡처하기 위해 설계된 고해상도 CCD 카메라가 장착되어 있습니다. 또한 이 카메라에는 노이즈를 줄이고 이미지 명암을 높이도록 설계된 고급 (Advanced) 이미지 처리 알고리즘이 장착되어 있습니다. 또한, 카메라 장치는 안정된 이미징 환경을 제공하는 낮은 수준의 열 소음 (thermal noise) 으로 이미지를 캡처하도록 설계되었습니다. XT 760F는 안정적이고 반복 가능한 이미징을 가능하게 하는 자동화된 웨이퍼 스테퍼입니다. 최대 25nm 해상도 (몇 초의 노출 시간) 로 이미징 할 수 있습니다. 이 기계는 웨이퍼에 일관된 이미지 균일성 (image unifority) 을, 웨이퍼에 걸쳐 신뢰할 수있는 반복성을 제공 할 수 있습니다. 또한 효율성이 높아 여러 웨이퍼를 동시에 이미징할 수 있습니다. 즉, 높은 수준의 정확도와 정확도를 유지하면서 처리량을 극대화할 수 있습니다.
아직 리뷰가 없습니다